X線結晶方位測定装置 DDCOM
コンパクトパッケージで超高速自動結晶方位測定を実現
ウェーハとインゴットの迅速かつ正確な方位決定
コンパクトパッケージで超高速自動結晶方位測定を実現
コンパクトパッケージで超高速かつ柔軟な結晶方位測定を実現
超高速結晶方位を実現する完全自動試料水平3軸X線回折装置
ウェーハの方位測定と選別のための高速、高精度、完全装備のソリューション
統合可能なウェーハ方位ソリューション
完全に自動化されたインライン方向とインゴット、ブール、パックの処理
コンパクトパッケージで超高速自動結晶方位測定を実現
| 技術 | |
|---|---|
| XRD分析 | |
| 結晶方位 | |
| システムタイプ | |
| システムタイプ | ベンチトップ |
| ステージ | |
| マッピングステージ | |
| 研磨ステージ | |
| スタッキングステージ | |
| 管球設定 | |
| 管球出力 | 30kV / 1mA |
| 冷却システム | 空冷 |
| 機能 | |
| マーキング | |
| 光学ジオメトリー認識 | |
| ロッキングカーブ(サンプルの結晶品質) | |
| Theta Scan (基本光学系を使用した方位測定の場合のみ) | |
| 仕様 | |
| スループット速度 | 10秒以上 |
コンパクトパッケージで超高速かつ柔軟な結晶方位測定を実現
| 技術 | |
|---|---|
| XRD分析 | |
| 結晶方位 | |
| システムタイプ | |
| システムタイプ | ベンチトップ |
| ステージ | |
| マッピングステージ | |
| 研磨ステージ | |
| スタッキングステージ | |
| 管球設定 | |
| 管球出力 | 30kV / 1mA |
| 冷却システム | 空冷 |
| 機能 | |
| マーキング | *ベーシック |
| 光学ジオメトリー認識 | ブールの場合はオプション |
| ロッキングカーブ(サンプルの結晶品質) | |
| Theta Scan (基本光学系を使用した方位測定の場合のみ) | |
| 仕様 | |
| スループット速度 | 高さ調節時間 + 10秒 |
超高速結晶方位を実現する完全自動試料水平3軸X線回折装置
| 技術 | |
|---|---|
| XRD分析 | |
| 結晶方位 | |
| システムタイプ | |
| システムタイプ | 床置き |
| ステージ | |
| マッピングステージ | |
| 研磨ステージ | |
| スタッキングステージ | |
| 管球設定 | |
| 管球出力 | 30kV / 10mA |
| 冷却システム | 水冷 |
| 機能 | |
| マーキング | |
| 光学ジオメトリー認識 | ブールの場合はオプション |
| ロッキングカーブ(サンプルの結晶品質) | |
| Theta Scan (基本光学系を使用した方位測定の場合のみ) | |
| 仕様 | |
| スループット速度 | 高さ調節時間 + 10秒 |
ウェーハの方位測定と選別のための高速、高精度、完全装備のソリューション
| 技術 | |
|---|---|
| XRD分析 | |
| 結晶方位 | |
| システムタイプ | |
| システムタイプ | 床置き |
| ステージ | |
| マッピングステージ | |
| 研磨ステージ | |
| スタッキングステージ | |
| 管球設定 | |
| 管球出力 | 30kV / 1mA |
| 冷却システム | 空冷 |
| 機能 | |
| マーキング | |
| 光学ジオメトリー認識 | |
| ロッキングカーブ(サンプルの結晶品質) | |
| Theta Scan (基本光学系を使用した方位測定の場合のみ) | |
| 仕様 | |
| スループット速度 | ウェーハ25枚あたり10分 |
統合可能なウェーハ方位ソリューション
| 技術 | |
|---|---|
| XRD分析 | |
| 結晶方位 | |
| システムタイプ | |
| システムタイプ | 床置き |
| ステージ | |
| マッピングステージ | |
| 研磨ステージ | |
| スタッキングステージ | |
| 管球設定 | |
| 管球出力 | 30kV / 1mA |
| 冷却システム | 水冷 |
| 機能 | |
| マーキング | |
| 光学ジオメトリー認識 | |
| ロッキングカーブ(サンプルの結晶品質) | |
| Theta Scan (基本光学系を使用した方位測定の場合のみ) | |
| 仕様 | |
| スループット速度 | -- |
完全に自動化されたインライン方向とインゴット、ブール、パックの処理
| 技術 | |
|---|---|
| XRD分析 | |
| 結晶方位 | |
| システムタイプ | |
| システムタイプ | 測定ヘッド |
| ステージ | |
| マッピングステージ | 該当なし |
| 研磨ステージ | 該当なし |
| スタッキングステージ | 該当なし |
| 管球設定 | |
| 管球出力 | 30kV / 1mA |
| 冷却システム | 空冷 |
| 機能 | |
| マーキング | 該当なし |
| 光学ジオメトリー認識 | 近日中に対応 |
| ロッキングカーブ(サンプルの結晶品質) | 該当なし |
| Theta Scan (基本光学系を使用した方位測定の場合のみ) | 該当なし |
| 仕様 | |
| スループット速度 | 装置による |
X線結晶方位測定装置 DDCOMコンパクトパッケージで超高速自動結晶方位測定を実現 |
X線結晶方位測定装置 SDCOMコンパクトパッケージで超高速かつ柔軟な結晶方位測定を実現 |
Omega/Theta超高速結晶方位を実現する完全自動試料水平3軸X線回折装置 |
Wafer XRD 200ウェーハの方位測定と選別のための高速、高精度、完全装備のソリューション |
Wafer XRD 300統合可能なウェーハ方位ソリューション |
XRD - OEM完全に自動化されたインライン方向とインゴット、ブール、パックの処理 |
|
|---|---|---|---|---|---|---|
| 技術 | ||||||
| XRD分析 | ||||||
| 結晶方位 | ||||||
| システムタイプ | ||||||
| システムタイプ | ベンチトップ | ベンチトップ | 床置き | 床置き | 床置き | 測定ヘッド |
| ステージ | ||||||
| マッピングステージ | 該当なし | |||||
| 研磨ステージ | 該当なし | |||||
| スタッキングステージ | 該当なし | |||||
| 管球設定 | ||||||
| 管球出力 | 30kV / 1mA | 30kV / 1mA | 30kV / 10mA | 30kV / 1mA | 30kV / 1mA | 30kV / 1mA |
| 冷却システム | 空冷 | 空冷 | 水冷 | 空冷 | 水冷 | 空冷 |
| 機能 | ||||||
| マーキング | *ベーシック | 該当なし | ||||
| 光学ジオメトリー認識 | ブールの場合はオプション | ブールの場合はオプション | 近日中に対応 | |||
| ロッキングカーブ(サンプルの結晶品質) | 該当なし | |||||
| Theta Scan (基本光学系を使用した方位測定の場合のみ) | 該当なし | |||||
| 仕様 | ||||||
| スループット速度 | 10秒以上 | 高さ調節時間 + 10秒 | 高さ調節時間 + 10秒 | ウェーハ25枚あたり10分 | -- | 装置による |