在許多生產或研發環境中,都可運用 X 光來分析材料和樣本的特性。X 光的波長範圍 (從 0.01 到 10nm) 非常適合用於分析原子級的材料及元件。
主要有幾項技術可運用 X 光來協助分析您的樣本特性。
XRD 分析
X 光繞射 (XRD)
XRF 分析
X 光螢光 (XRF)
XRD 與 XRF 比較:哪一種最適合我?
Which XRD technology is most suitable for my materials research?
XRD 與 XRF 技術都使用 X 光源及 X 光偵測器,因此有一些相似之處並可彼此互補,不過這兩種技術提供的資訊卻大不相同。
XRD 提供的資訊是關於樣本中存在的結晶相,另外也能分辨出各種化合物,例如不同的氧化態 (Fe2O3/Fe3O4) 或不同的同素異形體 (赤鐵礦與磁赤鐵礦,兩者皆屬於氧化鐵 Fe2O3)。
XRF 提供的資訊則是關於樣本的化學 (元素) 組成,即哪些元素 (Fe、O) 存在,數量又各是多少。XRF 的其中一個主要優勢在於可偵測低達 100 ppb (十億分之一) 的化學元素數量。相較於其他技術,XRF 樣本製備不僅快速簡單,同時更兼顧安全性。
Malvern Panalytical 的 X 光分析解決方案
Malvern Panalytical 是領先全球的 X 光分析設備供應商,具有數十年的經驗傳承。
我們的解決方案應有盡有,從易於使用的桌上型系統到全方位的落地式系統無所不包,而且 XRF 和 XRD 兩者皆有提供。
這些技術可彼此互補,而且許多生產管制環境中都會使用這兩種類型的設備,以確保最佳的品質保證成效。