X 光螢光是一種分析技術,可用來判定固體、液體、漿體及鬆散粉體等各種樣品類型中的化學成分。XRF 亦可用於測定分層和塗層的厚度及成分。此技術能分析如鈹 (Be) 到鈾 (U) 等元素,可偵測到的濃度範圍則介於 100 wt% 到低至 ppm 等級之間。
XRF 是一種原子放射方法,這方面與光發射光譜學 (OES)、ICP 及中子活化分析 (伽馬光譜學) 等應用相似。此類方法會測量樣品中高能化原子所發射之「光」(在此例中為 X 光) 的波長和強度。
在 XRF 中,來自 X 光管的主要 X 光射束照射會導致樣品中所存在的元素發射出具有個別能量特性的螢光 X 光。
圖右:X 光螢光 (XRF) 程序的範例:1) 入射光子 2) 特性光子。
XRF 是相當多樣化的分析技術,可廣泛應用於各式各樣的產業和科學領域中。不管是在瞭解或是在調控材料中的元素成分上,此技術的適應性及精確度使其成為不可或缺的實用工具。XRF 無論在協助鑑定材料、產業品管、保存文化遺產乃至發展科學研究等層面,都扮演著舉足輕重的角色,讓我們從各方面深入瞭解元素的世界。
XRF 在品管及製程控制方面受到廣泛運用。使用者無須花費太多心力製備樣品即可快速取得精準無比的結果,不僅如此,此技術更能隨時自動運用於高通量的產業環境中。XRF 本身具備的精確度及非破壞性特質,使其在眾多製造業中成為不可多得的品管工具,例如:
XRF 在材料研發中佔有重要地位:
在製藥與醫學領域中,XRF 的應用範圍也相當多元:
從樣品製備到結果報告,我們幫助您建立理想的工作流程來滿足您的元素分析需求。
XRF 分析是非常穩定可靠的技術,兼具高精準度及快速製備樣品的便利性。XRF 不僅隨時都能自動運用於高通量的產業環境中,更能同時提供樣品的定性和定量資訊。
用於分離 (分散)、辨識樣品的 X 光螢光光譜及測量其強度的技術在運用中衍生出兩大光譜儀類型:波長分散式 (WDXRF) 與能量分散式 (EDXRF) 系統。
在此瞭解更多有關光譜儀類型及其採用的技術:
我們提供各式各樣的 X 光螢光解決方案和 XRF 分析儀,可用於分析多種材料及應用中的元素成分,更同時提供波長分散式與能量分散式解決方案。
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量測類型 | |||||
薄膜測量 | |||||
元素分析 | |||||
汙染物偵測和分析 | |||||
元素定量 | |||||
化學鑑定 | |||||
技術類型 | |||||
波长色散式 X 射线荧光 (WDXRF) | |||||
能量色散式 X 射线荧光 (EDXRF) | |||||
元素范围 | |||||
LLD | 0.1 ppm - 100% | 1 ppm - 100% | 0.1 ppm - 100% | 0.1 ppm - 100% | |
分辨率 (Mg-Ka) | |||||
通量 |