La metrología de rayos X es la herramienta ideal para el análisis de películas delgadas en el desarrollo y la producción masiva de diferentes tipos de microdispositivos y dispositivos optoelectrónicos estructurados por capas.
Las técnicas de metrología de rayos X se han mantenido al día con el progreso en la industria a través del desarrollo de nuevas aplicaciones y tecnologías basadas en capas.
Siguen sirviendo como herramientas esenciales desde la fase de I+D, pasando por la producción piloto, hasta la fabricación automatizada a gran escala de dispositivos semiconductores.
Soluciones de análisis de película fina
Las herramientas de medición basadas en métodos de rayos X, como la cristalografía de rayos (XRD, por sus siglas en inglés), la reflectrometría de rayos X (XRR, por sus siglas en inglés) y la fluorescencia de rayos X (XRF, por sus siglas en inglés), han demostrado que ofrecen acceso rápido, no destructivo, confiable y preciso a parámetros críticos de películas finas, que van desde capas simples ultradelgadas hasta pilas complejas de varias capas.
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