Aplicaciones clave
Los X’Pert³ MRD y MRD XL de Malvern Panalytical son sistemas de soluciones de rayos X integrales que se pueden utilizar en muchas aplicaciones de industriales, incluidas las siguientes:
Semiconductores y obleas de cristales individuales
Ya sea para estudios de crecimiento o diseño de dispositivos, la medición de la calidad, el espesor, la tensión y la composición de la aleación de la capa, el uso de XRD de alta resolución ha estado en el centro de la investigación y el desarrollo de los dispositivos electrónicos y optoelectrónicos de semiconductores de capas múltiples. Gracias a su variedad de espejos de rayos X, monocromadores y detectores, el X’Pert3 MRD y el MRD XL ofrecen configuraciones de alta resolución para adaptarse a los diferentes sistemas de materiales, desde semiconductores correspondientes a la red, pasando por capas de amortiguadores relajados, hasta capas exóticas nuevas en sustratos no estándares
Sólidos policristalinos y películas finas
Las capas y los revestimientos policristalinos son un componente importante de muchos dispositivos de películas finas y capas múltiples. La evolución de la morfología de las capas policristalinas durante la deposición es un área de estudio clave en la investigación y el desarrollo de los materiales funcionales. El X’Pert3 MRD y el X’Pert3 MRD XL se pueden equipar plenamente con una variedad de hendiduras, espejos de rayos X de haz paralelo, lentes policapilares y hendiduras cruzadas y monocapilares con el fin de ofrecer toda la gama de óptica de haces incidentes para reflectometría, estrés, textura e identificación de fase.
Películas ultrafinas, nanomateriales y capas amorfas
Los dispositivos funcionales pueden contener películas finas desordenadas, amorfas o nanocompuestas. La flexibilidad de los sistemas X’Pert3 MRD y MRD XL permite incorporar múltiples métodos analíticos. Se dispone de una gama de óptica de alta resolución, hendiduras y colimadores de láminas paralelas, con el fin de proporcionar un rendimiento óptimo para métodos de incidencia rasante, difracción en plano y reflectometría.
Medición en condiciones no ambientales
El estudio del comportamiento de los materiales en una variedad de condiciones es una parte esencial de la investigación de materiales y el desarrollo de procesos. El X’Pert3 MRD y el MRD XL están diseñados para incorporar fácilmente la plataforma de muestras no ambientales DHS1100 de Anton Paar, lo que permite mediciones automatizadas en una gama de temperaturas y atmósfera inerte