X'Pert³ is now a Smart Instrument!. Find out more
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La larga y exitosa historia de los difractómetros de investigación de materiales (MRD) de Malvern Panalytical continúa ahora con la generación de X’Pert³ MRD XL. El rendimiento y la confiabilidad mejorados de la nueva plataforma han sumado más capacidad analítica y potencia para estudios de dispersión de rayos X en las siguientes aplicaciones:
El X’Pert³ MRD XL ofrece una amplia gama de aplicaciones con mapas de oblea completa de hasta 200 mm.
Descargar folletoLos sistemas MRD X'Pert³ ofrecen soluciones avanzadas e innovadoras de difracción de rayos X en la investigación, el desarrollo, el control de procesos y más. Las tecnologías utilizadas hacen que todos los sistemas se puedan actualizar en terreno a todas las opciones existentes y a los nuevos desarrollos en hardware y software futuros.
El X'Pert³ Extended MRD (XL) aporta mayor versatilidad a la gama de los sistemas MRD X'Pert³. Una plataforma de montaje PreFIX adicional permite montar un espejo de rayos X y un monocromador de alta resolución en línea, lo que aumenta considerablemente la intensidad del haz incidente.
Entre sus beneficios están los siguientes: mayor versatilidad de aplicación sin perjudicar la calidad de los datos, difracción de rayos X de alta resolución con altas intensidades, tiempos de medición más cortos para mediciones como mapas de espacio recíproco y reconstrucción desde la configuración estándar hasta la ampliada en cuestión de minutos gracias al concepto de PreFIX. Gracias a PreFIX de 2.ª generación, la reconfiguración es fácil, y el posicionamiento de la óptica es más exacto que nunca.
Con el sistema X'Pert³ MRD (XL) para difracción en plano, es posible medir la difracción desde planos de red perpendiculares a la superficie de la muestra.
Algunos de sus muchos beneficios son que dispone de geometrías estándares y en plano en un solo sistema y ofrece una amplia gama de experimentos de difracción en películas finas policristalinas y altamente perfectas.
| Compartimiento | Cabezal de | Fuente de rayos X Detectores/Estaciones |
|---|---|---|
| Dimensiones: 1370 (A) x 1131 (P) x 1972 mm (Alt) | Goniómetro horizontal | Tubos de rayos X completamente de cerámica, elaborados por la fábrica especializada de Malvern Panalytical bajo estrictas condiciones higiénicas |
| Peso: 1150 kg | Radio: 420 mm | Cambio de enfoque lineal a puntual libre de herramientas |
| Rango máximo utilizable (según accesorios) -40° <2θ <160° | Generador de 3 kW que alimenta todos los tubos, actuales y futuros, de rayos X | |
| Cumple con todas las normativas internacionales aplicables a la seguridad eléctrica, mecánica y de rayos X, con todo tipo de ánodos. | Sistema de codificación óptica directa para exactitud de goniómetro de por vida, con codificadores Heidenhain alineados con precisión | Detectores de píxeles híbridos con el tamaño de píxel más pequeño (55 x 55 µm2) del mercado |
| El sistema incorpora ruedas para facilitar la instalación y reubicación | Exactitud de largo alcance: ±0,0025° | Cuna de 5 ejes con desplazamiento x, y de 200 x 200 mm2 |
| Exactitud de rango corto (0,5°): ±0,0004° | Rotación Chi: ±92° | |
| Reproducibilidad angular: <0,0002° | Rotación Phi: 2 x 360° | |
| Incremento más pequeño: 0,0001° |
El PIXcel3D es un exclusivo detector de píxeles híbridos en estado sólido en 2D. Cada píxel es de 55 micrones x 55 micrones y la matriz del detector es de 256 x 256 píxeles. El detector, ahora basado en la tecnología Medipix3, aporta una señal al ruido sin igual, con su función de dispersión de punto de un píxel y varios niveles de discriminación energética.
El paquete X’Pert3 MRD XL para salas limpias incluye soluciones inteligentes, incluida una unidad de filtro de ventilador, para el MRD XL que se puede adaptar a su instrumento existente o se puede suministrar con uno nuevo.
Al filtrar el aire alrededor de la muestra de obleas de semiconductores, el paquete MRD XL Cleanroom le ayuda a evitar la contaminación al analizarlas. A su vez, esto le permite medir en una gama más amplia de entornos sin tener que invertir en un nuevo instrumento.
Como solución de software adicional para nuestra herramienta X’Pert3 MRD XL, la automatización se puede integrar en su instrumento existente y proporcionar un control de huésped compatible con SECS/GEM.
Con estas nuevas capacidades, el sistema MRD XL ahora puede demostrar su modularidad y flexibilidad en un entorno de fábrica controlado por el huésped. Esto permite garantizar un entorno de investigación o producción libre de contaminación.
Para garantizar que su instrumento se mantenga en un estado óptimo y funcione al
más alto nivel, Malvern Panalytical ofrece una amplia gama de servicios. Nuestra experiencia
y nuestros servicios de asistencia garantizan el óptimo funcionamiento de su instrumento.
Servicio de por vida
• Asistencia telefónica y remota
• Revisiones y mantenimiento preventivo
• Contratos de atención al cliente flexibles
• Certificados de rendimiento
• Actualizaciones de hardware y software
• Asistencia local y global
Agregue valor a sus procesos
• Desarrollo y optimización de preparación de muestras
• Metodologías analíticas
• Soluciones llave en mano para XRD
• Operaciones a través de IQ/OQ/PQ, control de calidad (GLP, ISO17025) o estudios interlaboratorios o cooperativos
• Automatización de los procesos del laboratorio
• Servicios de asesoría
• Capacitación in situ o en nuestros centros de competencia
• Amplia gama de cursos básicos y avanzados sobre productos, aplicaciones y software
• Servicios de análisis con expertos (XRF)
• Análisis de óxidos y trazas
• Materiales de calibración personalizados
Los X’Pert³ MRD y MRD XL de Malvern Panalytical son sistemas de soluciones de rayos X integrales que se pueden utilizar en muchas aplicaciones industriales, incluidas las siguientes:
Semiconductores y obleas de cristales individuales
Ya sea para estudios de crecimiento o diseño de dispositivos, la medición de la calidad, el espesor, la tensión y la composición de la aleación de la capa, el uso de XRD de alta resolución ha estado en el centro de la investigación y el desarrollo de los dispositivos electrónicos y optoelectrónicos de semiconductores de capas múltiples. Gracias a su variedad de espejos de rayos X, monocromadores y detectores, el X’Pert3 MRD y el MRD XL ofrecen configuraciones de alta resolución para adaptarse a los diferentes sistemas de materiales, desde semiconductores correspondientes a la red, pasando por capas de amortiguadores relajados, hasta capas exóticas nuevas en sustratos no estándares
Sólidos policristalinos y películas finas
Las capas y los revestimientos policristalinos son un componente importante de muchos dispositivos de películas finas y capas múltiples. La evolución de la morfología de las capas policristalinas durante la deposición es un área de estudio clave en la investigación y el desarrollo de los materiales funcionales. El X’Pert3 MRD y el X’Pert3 MRD XL se pueden equipar plenamente con una variedad de hendiduras, espejos de rayos X de haz paralelo, lentes policapilares y hendiduras cruzadas y monocapilares con el fin de ofrecer toda la gama de óptica de haces incidentes para reflectometría, estrés, textura e identificación de fase.
Películas ultrafinas, nanomateriales y capas amorfas
Los dispositivos funcionales pueden contener películas finas desordenadas, amorfas o nanocompuestas. La flexibilidad de los sistemas X’Pert3 MRD y MRD XL permite incorporar múltiples métodos analíticos. Se dispone de una gama de óptica de alta resolución, hendiduras y colimadores de láminas paralelas, con el fin de proporcionar un rendimiento óptimo para métodos de incidencia rasante, difracción en plano y reflectometría.
Medición en condiciones no ambientales
El estudio del comportamiento de los materiales en una variedad de condiciones es una parte esencial de la investigación de materiales y el desarrollo de procesos. El X’Pert3 MRD y el MRD XL están diseñados para incorporar fácilmente la plataforma de muestras no ambientales DHS1100 de Anton Paar, lo que permite mediciones automatizadas en una gama de temperaturas y atmósfera inerte
Versatile XRD research & development. High intensities for shorter measurement times. A new generation of tools for your wafer analysis.
