PIXcel3D
第一部為X光繞射儀提供 0D-1D-2D 和 3D 數據的偵測器
PIXcel3D 是獨特的 2D 固態混合像素偵測器。每個像素為 55 um x 55 um，偵測器陣列為 256 x 256 像素。由目前 Medipix3 技術支援的偵測器，可藉由單一像素的點散布函數和多重能量鑑別提供無與倫比的訊雜比。
產品特色
前瞻的系統靈活性
X'Pert³ MRD 系統提供先進和創新的 X 光繞射技術，可解決您在研究到製程開發以至於製程控制上所遇到的挑戰，所採用的這些技術兼容現有系統且可輕易升級轉移，包含了硬體和軟體等各方面。
X'Pert³ Extended MRD (XL)
X'Pert³ Extended MRD (XL) 為 X'Pert³ MRD 系列提供了更高的相容性，額外的 PreFIX 平台可同時安裝平行光反射鏡模組和高解析度單色儀，大幅提高入射光束強度。
由於 PreFIX 的概念，我們得以大幅提高量測的應用彈性，且無須犧牲其他方面的效能，包括數據品質，具高強度的高解析 X 光繞射、較短的量測時間 (例如倒易空間圖譜) 等，也可以在數分鐘內將原本的標準儀器配置變更到進階配置，有了第 2 代的 PreFIX，不僅可輕鬆調配機台配置，光學定位也比以往來得更為精準。
X'Pert³ MRD(XL) In-plane
有了適用於 In-plane 繞射的 X'Pert³ MRD (XL) 系統，我們可以量測與樣品表面垂直之晶格面的繞射訊號。
其在單一系統即具備標準和平面內幾何配置，且可對多晶形材料和高度完美的薄膜進行各種繞射實驗分析。
規格
| 外部機殼 | 測角儀 | X 光源 X 光偵測器/樣品載台 |
|---|---|---|
| 尺寸：1370 (寬) x 1131 (深) x 1972 (高) mm | 水平測角儀 | 由 Malvern Panalytical 專門工廠在無塵室條件下製造的全陶瓷 X 光管 |
| 重量：1150 kg | 半徑：420 mm | 可自由切換線光源和點光源模式，不需特殊工具。 |
| 最大可動範圍 (取決於配件) -40°< 2θ <160° | 3 kW 高壓產生器可支援所有現行以及未來的 X 光管規格 | |
| 符合全球所有相關的電氣、機械和 X 光安全法規，適用於所有 X 光靶類型 | 使用超高精度的 Heidenhain 直接光學編碼系統，可實現測角儀的永久精準度 | Hybrid pixel 偵測器具有市場上最小的像素尺寸 (55 x 55 µm2) |
| 系統內建移動滑輪，便於安裝和搬移位置 | 長範圍精準度： ±0.0025° | 5 軸可動樣品載台，具備 200 x 200 mm2 x、y 移動功能 |
| 短範圍 (0.5°) 精準度：±0.0004° | Chi 旋轉：±92° | |
| 角度再現性：< 0.0002° | Phi 角旋轉： 2 x 360° | |
| 最小角度變量：0.0001° |
配件
偵測器
一般
X’Pert³ MRD XL 無塵室套件
以最經濟有效的投資，因應更多樣的量測環境
X’Pert3 MRD XL 無塵室套件是由多種智慧解決方案所組成，其中包括 MRD XL 專用的循環過濾裝置，可升級您現有的設備，或直接安裝於全新的 X’Pert3 MRD XL。
MRD XL 無塵室套件可過濾半導體晶圓樣品周圍環境的空氣，協助您避免在樣品分析時所造成的汙染。如此一來，您便可以在更多樣的環境中進行測量，無須添購全新的儀器設備。
產品服務
最佳投資效益的
解決方案
Malvern Panalytical 提供多項產品服務，
以確保您的儀器保持在最佳狀態，發揮一流的性能，我們的應用專家
和技術支援服務能確保您的儀器在最佳狀態下運作。
客戶服務與技術支援
完整維修
• 電話與線上支援
• 設備保養與定期檢查
• 彈性的客戶維護合約
• 效能認證證書
• 硬體和軟體相關升級
• 台灣當地與全球支援
專業技術
為您的作業流程增加更多價值
• 樣品製備方法開發/最佳化
• 分析方法
• XRD 的整合式解決方案
• 透過 IQ/OQ/PQ 操作驗證、品質保證 (GLP，ISO17025) 或循環測試/實驗室測試
• 實驗室程序自動化
• 諮詢服務
教育訓練
• 提供現場教育訓練或訓練中心培訓
• 包含各種產品、應用分析與軟體的基礎課程及進階課程
分析服務和校正材料
• 專家 (XRF) 分析服務
• 氧化物和微量分析
• 客製化校正材料
主要功能
Malvern Panalytical X’Pert³ MRD 和 MRD XL 是多合一的 X 光解決方案，可用於許多工業應用，其中包括：
半導體和單晶晶圓
不論是磊晶成長研究或元件設計，使用高解析度 XRD 分析各層的品質、厚度、應變與合金成分已成為電子和光電子多層半導體元件的研發重心， X’Pert3 MRD 和 MRD XL 具有各種 X 光光學模組、單光器和偵測器選擇，可提供高解析度配置，以符合不同材料系統的應用，像是從磊晶成長半導體到新穎基材上的鬆弛緩衝層。
多晶形固體與薄膜
多晶形材料層和塗層是許多薄膜和多層元件的重要元素，沉積期間，多晶形材料層的形態演化是功能性材料研發的關鍵研究領域， X’Pert3 MRD 和 X’Pert3 MRD XL 可以完整配備各種狹縫、平行射束 X 光反射鏡、多毛細管透鏡、交叉狹縫和單一毛細管，讓您充分選擇適用於反射儀、應力、織構和晶相鑑定的入射光束光學元件。
超薄膜、奈米材料和非晶形層
功能性元件中可能含有無序、非晶形或奈米複合薄膜，彈性的 X’Pert3 MRD 和 MRD XL 系統能讓您納入多種分析方法，有各種高解析度光學元件、狹縫和平行板準直器可供使用，提供最佳化效能的低掠角入射方法、In-plane 繞射和反射式量測。
可控環境條件下的量測
研究材料在各種條件下的行為是材料研究和製程開發的必要部分， X’Pert3 MRD 和 MRD XL 的設計目的是為了輕鬆納入 Anton Paar 的 DHS1100 可控環境樣品載台，以實現在不同溫度範圍和惰性氣氛下的自動化測量。
