斜入射小角X線散乱法(GISAXS)

薄膜ナノ材料については、エネルギー技術、太陽電池素材、半導体デバイス、フォトニクス、音響、触媒など、数々の分野で活発に研究されています。1990年代の初頭以降、ナノ構造の薄膜の合成法が急速に増加してきました。薄膜合成はリソグラフィー手法と組み合わせることができ、主にナノ構造の規則性を高めるために使用されます。

集積回路:
多孔質シリカ膜は、多孔度を活かしてコンデンサの電解特性を制御する集積回路でよく用いられます。そうしたナノ細孔材料は、ゾル-ゲル処理において両親媒性ブロックコポリマーを用いて合成できます。構造指向剤を用いることで、規則性の高いナノ細孔アレイを作成できます。

磁気メモリデバイス:
さまざまな処理経路を使用して、電気および磁気用途向けに金属や金属酸化物のナノ粒子アレイを合成できます。

光エレクトロニクスとLED:
先進の分子線エピタキシ法(MBE)や化学気相成長法(CVD)を用いて、光エレクトロニクス用途向けに半導体量子ドットやナノワイヤを作成します。