光譜分析法

近紅外線光譜分析法為高度彈性的光譜分析解決方案，可用以進行材料測量與製程優化，且相當符合成本效益。

若需識別材料或分析與測量光能， ASD 系列產品中的可見光近紅外線光譜儀和光譜輻射計是絕佳解決方案。ASD 的完整攜帶式解決方案涵蓋了下列光譜分析法技術： 

• 可見光近紅外線光譜分析法
  
• SWIR (短波紅外線) 光譜分析法
• 可見光近紅外線光譜輻射測量法

形貌導向拉曼光譜技術 (MDRS) 結合了自動顆粒成像和拉曼光譜技術。此技術可用以對多成分樣品中的單一成分進行快速、自動化的化學與形貌特性分析。

Morphologi 4-ID 以單一整合平台提供快速、自動化的顆粒特定特性分析。 

X 光螢光光譜分析法透過 X 光激發樣品，接著測量來自樣品的螢光 X 光，以識別樣品中的元素。透過判斷螢光 X 光的能量或波長，即可識別元素，而螢光 X 光強度則可用以計算濃度。

X 光光譜分析法有兩種技術：能量分散式光譜分析法和波長分散式光譜分析法。Malvern Panalytical 提供多種 X 光螢光光譜分析解決方案，可用於分析樣品的定性與定量資訊。

PFTNA 使用光譜分析技術解讀元素濃度。此技術廣泛用於多種產業，實現高速線上製程控制。

CNA 系列產品中的交叉帶分析儀可提供具備高度代表性的元素分析，以實現安全、強大的即時製程中控制。