薄膜精密量測

X 光薄膜分析

X 光精密量測是理想的薄膜分析工具,適用於各種不同層級結構之微型與光電裝置的開發與大量生產。 

透過新的分層式應用和技術的開發,各種 X 光精密量測技術已能跟上業界的發展腳步。 

半導體裝置的研發、試生產一直到全面自動化製造階段,這些技術會持續作為重要的工具。

薄膜分析解決方案

基於 X 光方法的測量工具,例如 XRD、XRR 和 XRF,經證實可提供快速、非破壞性、可靠且準確的關鍵薄膜參數,涵蓋範圍從超薄單層到複雜的多層堆疊。

在下方進一步瞭解我們的薄膜分析儀器。

Zetium 系列

Zetium 系列

智能 Zetium 提供可靠的結果與強而有力的運行

Axios FAST

Axios FAST

高样品处理量

2830 ZT

2830 ZT

先進半導體薄膜的精密量測解決方案

Epsilon 4

Epsilon 4

快速準確的線下 (at-line) 元素分析

X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD

新一代高分辨X射线衍射仪

X'Pert³ MRD XL

X'Pert³ MRD XL

能滿足研發與品管的自動化 XRD 系統

量測類型
薄膜測量
技術類型
波长色散式 X 射线荧光 (WDXRF)
X光繞射(XRD)
能量色散式 X 射线荧光 (EDXRF)