スプレーテック

概要

スプレーアプリケーションの分野における35年以上の経験を基に、Malvern Panalyticalのスプレーテックは、スプレーおよび粒状化プロセスを把握するために必要なデータを提供します。 スプレーテックには次のような機能があります。

• 光学系交換不用で、さまざまなサイズ範囲(0.1～2000ミクロン)の測定に対応
• 1秒間に最大10,000回の測定を行うことで、経時的に急激に変化する液滴径を適切に測定
• 特許取得済みの多重散乱補正機能を用い、濃度に左右されない正確な結果を提供
• 光学系を汚すことなく、さまざまなスプレー噴霧特性を評価します。
• 独自のソフトウェアを使用し、スプレー粒子径の動的な変化をサイズヒストリーで表示します。

動作

Malvern Panalyticalのスプレーテックは、レーザ回折の手法を用いてスプレー液滴および噴霧粒子径の測定を行います。 レーザー光が、スプレーを通過する時に散乱した光のパターンから、粒度分布を測定します。 その後、この散乱パターンを解析し、液滴径を計算します。

スプレーテックシステムは主に以下の要素で構成されています。

• レーザー光発振部。測定時にスプレーの照射に使用される平行レーザー光源を含んでいます。
• レーザー光受光部。2つのレンズ(300mmまたは750mm)のうちどちらかを設置できます。それにより、スプレーによって散乱された光が一連のディテクターに当てられます。 幅広い角度に配置されたディテクターが、スプレーの液滴によって散乱された光の強度を正確に測定します。
• オプティカルベンチ。トランスミッターとレシーバーの位置を確実に合わせます。 ベンチの長さはアプリケーションに合わせて変更でき、ヒストリー調整できます。
• スプレーテックソフトウェア。測定プロセス中にシステムを制御し、散乱データを解析してスプレーの粒子液滴径の分布を計算します。 結果は「サイズヒストリー」トレンドプロットで表示されます。これにより、液滴径の経時変化を「即座に発見」できます。

仕様

一般

原理	レーザ回折式
解析項目	特許済みの多重散乱補正機能を含むMieおよびFraunhofer散乱
データー取得速度	高速モード：10kHz 連続モード：1Hz
最長測定時間	高速モード：30秒 連続モード：60分
測定トリガータイプ	内部：透過光量または光散乱レベル 外部：TTL入力またはスイッチトリガー
外部デバイス同期	TTL出力ポート(2機)

光学系

光源	最大4mWのHe-Neレーザー、632.8nm
レンズ配置	Fourier (平行ビーム)標準フーリエ型
レンズの焦点距離	300mmおよび750mm
測定範囲	0.5 µmで150mm。5 µm以上では1m以上まで拡張

検出器

配置	36素子対数間隔配列
角度範囲	0.015～17度**
光軸調整	自動

サイズ範囲パフォーマンス

粒子サイズ	300mm lens: 0.1 – 900 µm (Dv50: 0.5 – 600 µm). 750mm lens: 2 – 2000 µm (Dv50: 5 – 1600 µm).
精度	1%以下***
繰り返し性	1%以下***
再現性（非連続測定時）	1%以下***

ソフトウェア

21 CFR パート 11	オペレーティングモードER/ES準拠

システムコンプライアンス

レーザー安全性	クラス3R、IEC60825-1:2007およびCFR Chapter 1: Sub-chapter J: Part 1040 (CDRH)
規制試験	CE / FCC準拠 欧州低電圧指令の要件を順守

寸法・重量

ラボ用システム	950mmオプティカルベンチ：950mmx550mmx610mm (36kg) 1400mm オプティカルベンチ：37kg 1400x550x610 (37kg)
スプレー設備用システム	950mm オプティカルベンチ：950mmx550mmx650mm (36kg) 1400mm オプティカルベンチ：1400x550x650 (37kg)

システム

電源	100/240v、50/60Hz
製品保管温度	-20°C～+50°C
動作温度 (°C)	+15°C～+40°C
湿度	31°Cまでは最大80%。以降は40 °Cまで50%に線形的に減少 結露なきこと
保護等級(IP)	通常使用時にIP65

備考

*	これは噴霧範囲の端からスプレーテックレシーバーレンズまでの最大許容距離を指します。
**	レンズによって異なります。
***	NIST標準粒子のDv50の測定に関連します。 試料によって異なります。