HTK 16N – high-temperature chamber
1600ºCまで急速加熱する反射配置の粉末X線回折(XRD)に適しています。
その場X線分析は多くの場合、非室温条件での分析とも呼ばれ、学術および産業環境における高度な材料研究での主な応用の1つです。
材料の巨視的な特性は、その構造特性に直接関係しています(結晶学的対称性、微結晶サイズ、空孔、ナノ粒子または細孔のサイズと形状など)。 温度、圧力、さまざまなガス雰囲気、および機械的応力が相変態、化学反応、再結晶などを引き起こします。
X線回折(XRD)およびX線散乱技術は、これらの変化の正しく正確なその場特性を評価する最初の、場合によっては唯一の選択肢です。 製造工程の最適化、合成手順の調整、または最先端の研究と新しい材料の作成のいずれに対しても、その場X線分析は問題を解決するための最も包括的なツールです。
非室温依存アタッチメントとその応用分野の概要については、パンフレットをダウンロードしてください。