Analyse de couches minces par rayons X
La métrologie à rayons X est l'outil idéal pour l'analyse des couches minces dans le cadre du développement et de la production de masse de différents composants micro et optoélectroniques à structure en couches.
Les technologies de métrologie à rayons X se sont adaptées aux avancées de l'industrie grâce au développement de nouvelles applications et technologies basées sur les couches.
Elles constituent encore aujourd'hui des outils essentiels, de la phase de R&D jusqu'à la fabrication automatisée à grande échelle de semi-conducteurs, en passant par les productions pilotes.
Les outils de mesure basés sur les méthodes à rayons X, telles que la diffraction des rayons X, la réflectométrie des rayons X et la fluorescence X, ont démontré leur capacité à fournir un accès rapide, fiable, précis et non destructif aux paramètres essentiels des couches minces, des couches simples ultra minces aux empilements multicouches complexes.
Pour en savoir plus sur nos instruments d'analyse des couches minces, consultez la rubrique ci-dessous.
ZetiumL'excellence élémentaire |
Axios FASTCadence d'analyse élevée |
2830 ZTSolution avancée de métrologie des couches minces de semi-conducteurs |
Epsilon 4Analyse élémentaire à proximité de ligne rapide et précise |
X'Pert³ MRDLa nouvelle génération de diffractomètres polyvalents pour la recherche en matériaux |
X'Pert3 MRD (XL)La nouvelle génération de diffractomètres polyvalents pour la recherche en matériaux |
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| Type de mesure | ||||||
| Métrologie des couches minces | ||||||
| Technologie | ||||||
| Fluorescence X à dispersion de longueur d'onde (WDXRF) | ||||||
| Diffraction des rayons X (XRD) | ||||||
| Fluorescence X à dispersion d'énergie (EDXRF) | ||||||
