X'Pert³ is now a Smart Instrument!. Find out more
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La longue et prospère histoire des diffractomètres MRD continue avec une nouvelle génération – X’Pert³ MRD and X’Pert³ MRD XL. Les performances et la fiabilité accrues de la nouvelle plateforme ont augmenté les capacités d'analyse et la puissance dans les études des:
Les deux systèmes traitent la même gamme d'applications avec la cartographie complètes de wafers jusqu'à 100 mm (X’Pert³ MRD) ou 200 mm (X’Pert³ MRD XL).
Version standard pour la recherche et le développement des échantillons de couches minces, wafers (cartographie complète jusqu'à 100 mm) et matériaux solides. Les capacités d'analyses haute-résolution sont améliorées avec la précision inégalée du nouveau goniomètre haute résolution utilisant des encodeurs Heidenhain.
Le X'Pert³ MRD XL répond à toutes les exigences des analyses XRD haute résolution des semi-conducteurs, des couches minces, et des industries des matériaux de pointe. La cartographie complète de wafers jusqu'à 200 mm est possible. La version X'Pert³ amène une durée de vie plus longue pour les composants du faisceau incident (CRISP) et une disponibilité maximale avec les obturateurs et atténuateurs pneumatiques.
En simplifiant l'analyse des wafers jusqu'à 300 mm de diamètre, avec une option automatique et sophistiquée de chargeur de wafers, X'Pert³ MRD XL devient un outil de pointe pour le contrôle qualité des structures de couches minces industriels.
Le X'Pert³ étendu MRD (XL) augmente la polyvalence de la gamme des systèmes X'Pert³ MRD. Un PreFIX supplémentaire permet de monter à la fois un miroir et un monochromateur haute-résolution, augmentant de manière significative l'intensité du faisceau incident.
On bénéficie ainsi d'une polyvalence d'application sans compromis sur la qualité des données à haute résolution diffraction des rayons X avec des intensités élevées et de réduction des temps de mesure telles que la cartographie de l'espace réciproque, et la reconfiguration de standard à étendu se fait en quelques minutes grâce au concept des PreFIX. Avec la deuxième génération de PreFIX, le passage d'une configuration à une autre est simple et le positionnement optique est encore plus précis que jamais.
Avec le X'Pert³ MRD (XL) pour la diffraction in-plane ou dans le plan, il devient possible de mesurer la diffraction à partir des plans du réseau qui sont perpendiculaires à la surface de l'échantillon.
Géométrie standard et dans le plan sur un même système et un large éventail d'expériences de diffraction sur polycristallin et couches minces parfaites, ne sont que deux des nombreux avantages.
Les systèmes X'Pert³ MRD offrent des solutions avancées et innovantes de diffraction X de la recherche au développement et contrôle de procédé.
Les technologies utilisées rendent possible la mise à jour de tout type d'options et nouveaux développements hardware et logiciel à venir.
Le PIXcel3D est un détecteur à pixels 2D hybride à semi-conducteurs unique. Chaque pixel mesure 55 microns x 55 microns et l'ensemble de détection est de 256 x 256 pixels. Le détecteur, désormais basé sur la technologie Medipix3, apporte un rapport signal/bruit inégalé grâce à sa fonction de diffusion d'un seul pixel et à ses multiples niveaux de discrimination énergétique.
Le pack X'Pert3 MRD XL pour salle blanche comprend des solutions intelligentes, dont une unité de filtration pour ventilation, pour le système MRD XL, pouvant être installées sur votre instrument actuel ou fournies avec un nouvel instrument.
En filtrant l'air autour de vos échantillons de wafers semi-conducteurs, le pack MRD XL pour salle blanche vous permet d'éviter toute contamination lors de leur analyse. Vous pouvez ainsi effectuer des mesures dans un plus grand nombre d'environnements sans avoir à investir dans un nouvel instrument.
En tant que solution logicielle supplémentaire pour notre outil X'Pert3 MRD XL, l'automatisation peut être intégrée à votre instrument existant pour fournir un contrôle hôte conforme à la norme SECS/GEM.
Grâce à ces nouvelles fonctionnalités, le système MRD XL peut désormais jouer de sa modularité et de sa flexibilité dans un environnement de fabrication contrôlé par l'hôte. Cela permet de garantir un environnement de recherche ou de production sans contamination.
Versatile XRD research & development. High intensities for shorter measurement times. A new generation of tools for your wafer analysis.
