La plataforma X'Pert mejorada
La gama de sistemas de difracción de rayos X X'Pert³ de Malvern Panalytical continúa el éxito de la plataforma X'Pert. Con sus nuevos sistemas electrónicos de control incorporados, su cumplimiento de las normas de seguridad más recientes y más estrictas de rayos X y de movimiento, sus avances en características ecológicas y su confiabilidad, la plataforma X'Pert³ está lista para el futuro.
• Componentes de haz incidente (CRISP) de más larga duración
• Máximo tiempo de actividad con obturadores neumáticos y atenuadores de haz
• Fácil extensión a nuevas aplicaciones gracias a la tecnología PreFIX de 2.ª generación
• Intercambio de la posición de los tubos rápido, confiable y sin necesidad de herramientas
• Nuevos sistemas electrónicos de control incorporados con conexión directa a Internet
• Cumplimiento de los reglamentos de seguridad más estrictos
Los sistemas X'Pert³ MRD ofrecen soluciones de difracción de rayos X avanzadas e innovadoras desde la investigación hasta el desarrollo y el control de procesos.
Las características incluyen
Una plataforma de montaje PreFIX adicional permite montar un espejo de rayos X y un monocromador de alta resolución en línea, aumentando significativamente la intensidad del haz incidente.
Las características incluyen
X'Pert³ MRDVersátil sistema XRD de investigación y desarrollo |
X'Pert³ MRD XLVersátil sistema XRD de investigación, desarrollo y control de calidad |
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|---|---|---|
| Tecnología | ||
| X-ray Diffraction (XRD) | ||
| Tipo de medición | ||
| Identificación de fases | ||
| Cuantificación de fases | ||
| Metrología de película delgada | ||
| Esfuerzo residual | ||
| Rugosidad de interfaz | ||
| Análisis de epitaxia | ||
| Análisis de textura | ||
| Análisis del espacio recíproco | ||
| Wafer max. diameter | 100 mm | 300 mm |
| SECS/GEM | ||
| Cleanroom ISO 4 | ||
