Las herramientas de metrología de película delgada basadas en métodos de rayos X, tales como XRD, XRR y XRF, son rápidas y no destructivas. Está comprobado que son potentes para la investigación ex situ de parámetros críticos de materiales de capas delgadas, heteroestructuras y sistemas de superredes hasta la escala de nanómetros.
La información derivada es esencial para optimizar la calidad de la película, lo que mejora la eficiencia de producción y reduce los costos.
Malvern Panalytical ofrece soluciones de metrología para el desarrollo y el control de producción de dispositivos optoelectrónicos y microelectrónicos estructurados en capas.
