A metrologia de raios X é a ferramenta ideal para a análise de filme fino no desenvolvimento e na produção em massa de um tipo diferente de dispositivos micro e optoeletrônicos estruturados em camadas.
As técnicas de metrologia de raios X acompanharam o progresso da indústria com o desenvolvimento de novas aplicações e tecnologias baseadas em camadas.
Elas continuam a servir como ferramentas essenciais desde a fase de P&D até a produção piloto e a fabricação automatizada em larga escala de dispositivos semicondutores.
Soluções de análise de filmes finos
As ferramentas de medição baseadas em métodos de raios X, como a XRD, a XRR e a XRF, fornecem acesso rápido, não destrutivo, confiável, preciso e comprovado a parâmetros críticos de filmes finos, que vão desde camadas únicas ultrafinas até pilhas multicamadas complexas.
Saiba mais sobre nossos instrumentos de análise de filmes finos, abaixo.
