Análise de filmes finos por raios X
A metrologia de raios X é a ferramenta ideal para a análise de filme fino no desenvolvimento e na produção em massa de um tipo diferente de dispositivos micro e optoeletrônicos estruturados em camadas.
As técnicas de metrologia de raios X acompanharam o progresso da indústria com o desenvolvimento de novas aplicações e tecnologias baseadas em camadas.
Elas continuam a servir como ferramentas essenciais desde a fase de P&D até a produção piloto e a fabricação automatizada em larga escala de dispositivos semicondutores.
As ferramentas de medição baseadas em métodos de raios X, como a XRD, a XRR e a XRF, fornecem acesso rápido, não destrutivo, confiável, preciso e comprovado a parâmetros críticos de filmes finos, que vão desde camadas únicas ultrafinas até pilhas multicamadas complexas.
Saiba mais sobre nossos instrumentos de análise de filmes finos, abaixo.
ZetiumExcelência elementar |
Axios FASTAlta produtividade de amostras |
2830 ZTSolução de metrologia de filme fino de semicondutores avançados |
Epsilon 4Rapidez e precisão na análise elementar em linha |
X'Pert³ MRDVersátil sistema XRD de pesquisa e desenvolvimento |
X'Pert³ MRD XLVersátil sistema XRD de pesquisa, desenvolvimento e controle de qualidade |
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| Tipo de medição | ||||||
| Metrologia de filme fino | ||||||
| Tecnologia | ||||||
| Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) | ||||||
| X-ray Diffraction (XRD) | ||||||
| Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) | ||||||
