Somos os proprietários ou os licenciados de todos os direitos de propriedade intelectual em nosso site e no material publicado nele. Esses trabalhos são protegidos por leis e tratados de direitos autorais no mundo todo. Todos esses direitos são reservados.
Você pode imprimir uma cópia e baixar trechos de quaisquer páginas de nosso site para uso pessoal e pode chamar a atenção de outros em sua organização para o teor publicado em nosso site.
Você não tem permissão para modificar cópias impressas ou digitais de quaisquer materiais impressos ou baixados, e não poderá usar nenhuma ilustração, fotografia, sequências de vídeo, áudio ou gráfico separadamente de qualquer texto que o acompanha.
Nosso status (e o de qualquer contribuinte identificado) como os autores do teor em nosso site devem sempre ser reconhecidos.
O uso comercial de qualquer parte do teor em nosso site não é permitido sem nossa respectiva licença ou de nossos licenciadores.
Se você imprimir, copiar ou baixar qualquer parte de nosso site de maneira que viole estes termos de uso, seu direito de usar nosso site será interrompido imediatamente e você deverá, a nosso critério, devolver ou destruir quaisquer cópias feitas dos materiais.
Marcas registradas
Marca Comercial | Status |
---|---|
1DER | ® |
AERIS | ® |
AERIS PANALYTICAL | ® |
(ASD Inc) logo | ® |
AMASS | ® |
AMPLIFY ANALYTICS | ® |
AMPLIFY ANALYTICS (+ Logo) | ® |
Archimedes | ® |
AXIOS | ® |
CHI-BLUE | ® |
Claisse | ® |
Claisse (+ Logo) | ® |
CREOPTIX | ® |
CUBIX | ® |
CUBIX3 | ® |
dCore | ™ |
EAGON | ® |
Eagon 2 | ® |
EASY SAXS | ® |
EMPYREAN | ® |
EPSILON | ® |
EPSILON X-FLOW | ® |
EXPERT SAXS | ® |
EASY SAXS | ® |
FieldSpec | ® |
FIPA | ™ |
FLUOR’X | ® |
GALIPIX 3D | ® |
Gemini | ™ |
goLab | ™ |
HandHeld 2 | ™ |
HIGHSCORE | ® |
Hydrosight | ™ |
iCore | ™ |
Indico Pro | ™ |
Insitec | ® |
(Insitec logo) | ® |
(Insitec Measurement Systems logo) | ® |
ISys | ® |
LabSizer | ™ |
LabSpec | ® |
LeNeo | ® |
LeDoser | ™ |
LeDoser-12 | ™ |
M3 PALS | ™ |
M4 | ™ |
MADLS | ® |
Malvern | ® |
(Triangular hills logo + Malvern Instruments) | ® |
Malvern in Chinese characters | ® |
Malvern Instruments | ® |
Malvern Instruments in Chinese characters | ® |
Malvern Link | ™ |
(Malvern Plus Hills Logo) | ® |
MALVERN PANALYTICAL | ® |
MALVERN PANALYTICAL in Chinese characters | ® |
MALVERN PANALYTICAL in Katakana | ® |
MALVERN PANALYTICAL in Korean script | ® |
MALVERN PANALYTICAL (+ X Logo) | ® |
Mastersizer | ® |
Mastersizer 2000 | ™ |
MC (stylised) | ® |
MDRS | ® |
Microcal | ® |
Morphologi | ® |
(Triangular hills logo) | ® |
Nanosight | ® |
NIBS | ™ |
OIL-TRACE | ® |
OMNIAN | ® |
OMNISEC | ® |
OMNITRUST | ® |
PANALYTICAL | ® |
PANALYTICAL LOGO (picture) | ® |
PANTOS | ® |
PEAQ-ITC | ® |
PIXCEL | ® |
PIXCEL 1D | ® |
PIXCEL 3D | ® |
PIXIRAD | ® |
QualitySpec | ® |
Spraytec | ™ |
SST | ® |
SST-MAX | ® |
SUPER SHARP TUBE | ® |
STRATOS | ® |
SUPER Q | ® |
SyNIRgi | ™ |
TerraSpec | ® |
TheOx® Advanced | ® |
Ultrasizer | ™ |
VENUS MINILAB | ® |
ViewSpec | ™ |
Viscogel | ™ |
Viscotek | ® |
Viscotek SEC-MALS | ™ |
WAVECHIP | ® |
WE'RE BIG ON SMALL | ™ |
(X Logo) | ® |
X’CELERATOR | ® |
XPERT3 | ® |
Zetasizer | ® |
ZETIUM | ® |
ZS Helix | ® |
Patentes
A Malvern Panalytical tem uma variedade de produtos exclusivos, líderes de mercado, protegidos pelas seguintes aplicações de patentes e patentes:
Mastersizer
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
GB2494735B | Aparelho para medir a distribuição do tamanho das partículas por espalhamento de luz | MS3000, MS3000E |
CN104067105B
EP2756283B1 (GB, FR, DE602012015707.0) US9869625B2 JP6154812B | Aparelho e método para medir a distribuição do tamanho das partículas por espalhamento de luz | MS3000, MS3000E |
US10837889B2
GB2494734B | Aparelho e método para medir a distribuição do tamanho das partículas por espalhamento de luz | MS3000, MS3000E |
Zetasizer
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
US7217350B2
| Mobilidade e efeitos decorrentes da carga da superfície | Linha Zetasizer Advance, Nano ZS, Nano Z, Nano ZS90, Nano ZSP, Helix |
EP2467701B1 (CH+LI, GB, FR, DE602010067652.8)
CN102575984B US9279765B2 JP5669843B2 US10317339B2 US11237106B2 | Microrreologia de fluidos complexos baseada em espalhamento dinâmico de luz com detecção de modo de espalhamento único aprimorado | Linha Zetasizer Advance, Nano ZSP, Helix |
CN103608671B
CN105891304B EP2721399B1 (BE, CH+LI, DK, FR, GB, NL, DE602012031338.2, IT502017000050268) JP6023184B2 US9829525B2 US10274528B2 US11079420B2 | Medição de carga de superfície | Acessório de célula de placa zeta |
US8702942B2
CN103339500B EP2652490B1 (GB, FR, DE602011046775.1) JP06006231B2 JP06453285B2 US10648945B2 | Eletroforese Doppler a laser que utiliza uma barreira de difusão | Linha Zetasizer Advance, Nano ZS, Nano S, Nano ZS90, S90, Nano ZSP |
EP2742337B1 (GB, FR, DE602012018122.2)
US9816922B2 | Caracterização de modo duplo de partículas | Zetasizer Helix |
US10197485B2
US10520412B2 US10845287B2 US11435275B2 EP3353527A1 JP6936229B2 CN108291861B | Caracterização de partículas | Linha Zetasizer Advance |
US10119910B2 | Instrumento de caracterização de partículas | Zetasizer Advance: Ultra e Pro |
US8675197B2
JP6059872B2 EP2404157B1 (GB, FR, DE602010066495.3) | Caracterização de partículas | Acessório Zetasizer Advance |
EP3521806A1
US11441991B2 CN111684261A JP2021513649A | Espalhamento de luz dinâmico multi-ângulo | Zetasizer Advance: Ultra |
Insitec
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
US7418881B2
EP1592957B1 (GB) | Sistema e método de diluição | Insitec (alguns produtos) |
US7871194B2
EP1869429B1 (GB, FR, DE602006060213.8) | Sistema e método de diluição | Insitec (alguns produtos) |
EP2640499B1 (GB) | Método de mistura em pó e dispersor em linha | Insitec dry |
Morphologi
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
EP2106536B1 (GB, FR, DE602008039489.1)
US8111395B2 US8564774B2 | Investigação espectrométrica da heterogeneidade | Morphologi G3-ID |
GB2522735B
JP6560849B2 | Método e aparelho para dispersão de pó | Morphologi G3-ID, Morphologi G3 |
Viscosizer
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
US11113362B2
JP6917897B2 EP3274864A1 CN107430593B | Parametrização do modelo de vários componentes | Viscosizer TD |
Hydro Sight
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
US8456633B2 | Monitoramento do processo espectrométrico | Hydro Sight |
CN104704343B
EP2864760A2 US10509976B2 | Caracterização de amostra de fluido heterogêneo | Hydro Sight |
NanoSight
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
US7751053B2
JP04002577B2 EP1499871B1 (FR, DE60335872.1) US7399600B2 | Detecção óptica para análise de partículas | NanoSight NS300
NanoSight NS500 NanoSight LM10 |
EP3071944B1 (GB, FR, DE602014059002.0)
US9909970B2 JP6505101B2 CN105765364B | Melhorias na ou relacionadas à calibração de instrumentos | NanoSight NS300 |
MicroCal ITC
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
CN101855541B
EP2208057A1 JP05542678B2 US8449175B2 US8827549B2 | Aparelho de microcalorímetro de titulação isotérmica e método de uso | Linha MicroCal ITC |
CN102232184B
EP2352993B1 (CH+LI, GB, FR, DE602009044685.1) JP5476394B2 US9103782B2 US9404876B2 US10036715B2 US10254239B2 EP3144666B1 (CH+LI, GB, FR, DE602009059932.1) US20200025698A1 EP3647776A1 | Aparelho de microcalorímetro automático de titulação isotérmica e método de uso | Linha MicroCal ITC |
MicroCal DSC
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
US8635045B2
CN103221808B EP2646811B1 (GB, FR, DE 602011071793.6) IN336472 JP5925798B2 | Método para descoberta automática de pico em dados calorimétricos | Linha MicroCal DSC |
OMNISEC
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
US9759644B2
US10551291B2 | Viscosímetro de ponte capilar balanceado | OMNISEC |
US9612183B2
EP2619543B1 (GB, FR, DE602011011174.4) JP05916734B2 CN103168223B IN341558 | Viscosímetro de ponte capilar modular | OMNISEC |
QualitySpec 7000
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
US8164747B2
CA2667650C EP2092296B1 (CH+LI, NL, SE, DK, DE602007045593.6) | Aparelho, sistema e método para medições espectroscópicas ópticas | QualitySpec 7000 |
TerraSpec Halo
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
US9207118B2 | Aparelho, sistema e método para varredura da instrumentação do espectrômetro de matriz de diodo e monocromador | TerraSpec Halo |
QualitySpec Trek
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
US9207118B2 | Aparelho, sistema e método para varredura da instrumentação do espectrômetro de matriz de diodo e monocromador | QualitySpec Trek |
FRX apoiados no chão
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
US8210000B2
JP5554163B2 CN101941789B EP2270410B1 (GB, FR, NL, DE602009003389.1) AU2010202662B2 | Amostra fundida de esferas | Zetium
Axios FAST Epsilon5 |
EP1701154B1 (FR, DE)
JP4950523B2 | Instrumento e método para correção de anormalidades
| Zetium*
Axios FAST* 2830 ZT (analisador de wafers)* Epsilon5* SEMYOS* |
US7949092B2
| Dispositivo e método para realizar a análise por raios X
| Zetium*
Axios FAST* 2830 ZT (analisador de wafers)* Epsilon5* SEMYOS |
JP5782451B2
EP2510397B1 (GB, FR, NL, DE602010021859.7) | Método para fabricação de uma estrutura multicamadas com um padrão lateral para aplicação na faixa de comprimento de onda xuv, e estruturas bf e Imag fabricadas de acordo com este método | Zetium*
Axios FAST 2830 ZT (analisador de wafers)* Epsilon5* SEMYOS* |
US9658352B2
CN104833557B JP656263B2 JP6804594B2 | Método de criação de um padrão | Zetium
Axios FAST |
EP2787342B1 (GB, FR, NL, DE602013028642.6)
JP6360151B2 | Preparação dos pellets de amostra através de pressurização | Zetium
Axios FAST |
US10107551B2
EP2966039B1 (GB, FR, NL, DE602014024004.2) JP6559486B2 CN105258987B | Preparação de amostras para FRX com a utilização de fluxo e cadinho de platina | Zetium
Axios FAST |
US9784699B2
JP6861469B2 CN105937890B EP3064931B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016057221.4) | Análise quantitativa por raios X - Correção da espessura da matriz | Zetium*
Axios FAST |
US9739730B2
JP6706932B2 CN105938113B EP3064933B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016056347.9) | Análise quantitativa por raios X - Instrumento de trajeto óptico múltiplo | Zetium*
Axios FAST |
US9851313B2
JP6762734B2 CN105938112B EP3064932B1 (GB, FR, NL, CH+LI, DE602016024126.9) | Análise quantitativa por raios X - Correção da razão | Zetium*
Axios FAST |
US9239305B2 | Suporte de amostra | Zetium*
Axios FAST* Epsilon5 |
US7978820B2
| Difração de raios X e fluorescência | Zetium
Axios FAST* 2830 ZT (analisador de wafers)* Epsilon5* SEMYOS* |
US7720192B2
JP5574575B2 CN101311708B | Aparelho de fluorescência de raios X | Zetium*
Axios FAST* 2830 ZT (analisador de wafers)* Epsilon5* SEMYOS* |
US7194067B2
| Sistema óptico de raios X | Zetium
Axios FAST* 2830 ZT (analisador de wafers)* Epsilon5* SEMYOS* |
US8223923B2
JP5266310B2 CN101720491B EP1983547B1 (GB, FR, NL, DE602008000361D1) | Fonte de raios X com cátodo de fio metálico | Zetium
Axios FAST 2830 ZT (analisador de wafers) Epsilon5 SEMYOS |
US9911569B2
JP2016131150A CN105810541B EP3043371B2 (GB, FR, NL, DE602015012421.9) | Disposição do ânodo da ampola de raios X
| Zetium
Axios FAST 2830 ZT (analisador de wafers) Epsilon5 SEMYOS |
US10281414B2
EP3330701B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602017006751.2) EP3480587B1 (GB, FR, NL, DE602017061400.9) US10393683B2 JP6767961B2 CN108132267A | Colimador cônico para medições de raios X | Zetium* |
*· Opcional/não padrão no produto |
FRX de bancada
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
US8210000B2
JP5554163B2 CN101941789B EP2270410B1 (GB, FR, NL, DE602009003389.1) | Amostra fundida de esferas | Série Epsilon 1
Espectômetros Epsilon 3X Edição Epsilon 4 Air Quality |
EP1701154B1 (FR, DE)
JP4950523B2 | Instrumento e método para correção de anormalidades
| Série Epsilon 1*
Espectômetros Epsilon 3X* Edição Epsilon 4 Air Quality* |
US7949092B2
| Dispositivo e método para realizar a análise por raios X
| Série Epsilon 1*
Espectômetros Epsilon 3X* Edição Epsilon 4 Air Quality* |
US9658352B2
CN104833557B JP6562635B2 JP6804594B2 | Método de criação de um padrão | Série Epsilon 1
Espectômetros Epsilon 3X Edição Epsilon 4 Air Quality |
EP2787342B1 (GB, FR, NL, DE602013028642.6)
JP6360151B2 | Preparação dos pellets de amostra através de pressurização | Série Epsilon 1
Espectômetros Epsilon 3X Edição Epsilon 4 Air Quality |
US10107551B2
JP6559486B2 CN105258987B EP2966039B1 (GB, FR, NL, DE602014024004.2) | Preparação de amostras para FRX com a utilização de fluxo e cadinho de platina | Série Epsilon 1
Espectômetros Epsilon 3X Edição Epsilon 4 Air Quality |
US9784699B2
JP6861469B2 CN105937890B EP3064931B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016057221.4) | Análise quantitativa por raios X - Correção da espessura da matriz | Série Epsilon 1*
Espectômetros Epsilon 3X* Edição Epsilon 4 Air Quality* |
US9739730B2
JP6706932B2 CN105938113B EP3064933B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016056347.9) | Análise quantitativa por raios X - Instrumento de trajeto óptico múltiplo | Série Epsilon 1*
Espectômetros Epsilon 3X* Edição Epsilon 4 Air Quality* |
US9851313B2
JP6762734B2 CN105938112B EP3064932B1 (GB, FR, NL, CH+LI, DE602016024126.9) | Análise quantitativa por raios X - Correção da razão | Série Epsilon 1*
Espectômetros Epsilon 3X* Edição Epsilon 4 Air Quality* |
US9239305B2 | Suporte de amostra | Série Epsilon 1*
Espectômetros Epsilon 3X* Edição Epsilon 4 Air Quality* |
US9547094B2
CN104849295B EP2908127B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602014011398.2) JP6526983B2 | Aparelho de análise por raios X
| Série Epsilon 1
Espectômetros Epsilon 3X Edição Epsilon 4 Air Quality |
US7978820B2
| Difração de raios X e fluorescência | Série Epsilon 1*
Espectômetros Epsilon 3X* Edição Epsilon 4 Air Quality* |
US8223923B2
JP5266310B2 CN101720491B EP1983547B1 (GB, FR, NL, DE602008000361D1) | Fonte de raios X com cátodo de fio metálico | Série Epsilon 1*
Espectômetros Epsilon 3X* Edição Epsilon 4 Air Quality* |
US9911569B2
JP2016131150A CN105810541B EP3043371B2 (GB, FR, NL, DE602015012421.9) | Disposição do ânodo da ampola de raios X
| Série Epsilon 1*
Espectômetros Epsilon 3X* Edição Epsilon 4 Air Quality* |
* Opcional/não padrão no produto |
DRX apoiados no chão
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
EP1701154B1 (FR, DE)
JP4950523B2 | Instrumento e método para correção de anormalidades | Linha Empyrean
X'Pert³ Powder X'Pert³ MRD (XL) CubiX³ |
US9506880B2
CN104251870B EP2818851A1 JP6403452B2 | Imagens por difração | Linha Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³# |
US7116754B2 | Difratômetro | Empyrean#
|
US7858945B2
JP5254066B2 CN101521246B EP2088451B1 (GB, FR, NL, DE602008041760.3) | Detector de imagens | Linha Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³# |
EP2088625B1 (GB, FR, NL, CH + LI, DE602009040563.2) | Detector de imagens | Linha Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³# |
US9110003B2
CN103383363B EP2634566B1 (GB, FR, NL, DE602012058202.2) JP6198406B2 | Microdifração
| Linha Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³# |
US9640292B2
CN104777179B EP2896960B1 (GB, FR, NL, DE602014012155.1) JP6564683B2 | Aparelho de raios X
| Linha Empyrean
X'Pert³ Powder CubiX³ |
US7756248B2
JP5145263B2 CN101545873B EP2090883B1 (GB, FR, NL, DE602008002143D1) | Detecção de raios X na embalagem
| Empyrean
X'Pert³ Powder X'Pert³ MRD (XL) |
US8477904B2
JP5752434B2 CN102253065B EP2365319B1 (GB, FR, NL, DE602011055847.1) | Difração de raios X e tomografia computadorizada | Linha Empyrean
X'Pert³ Powder* X'Pert³ MRD (XL)* CubiX³* |
US7542547B2
JP5280057B2 CN101256160B EP1947448B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602007031351.1) | Equipamento de difração de raios X para dispersão de raios X
| X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)* |
US7477724B2
EP1703276B1 (GB, FR, NL, DE602005033962.0) | Instrumento de raios X | Linha Empyrean*
X'Pert³ Powder* X'Pert³ MRD (XL)* CubiX³ |
US8437451B2
JP5999901B2 CN102610290B EP2477191B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602011035906.1) | Disposição do obturador de raios X | Linha Empyrean
X'Pert³ Powder X'Pert³ MRD (XL) CubiX³ |
US9911569B2
JP2016131150A CN105810541B EP3043371B1 (GB, FR, NL, DE602015012421.9) | Disposição do ânodo da ampola de raios X
| Linha Empyrean*
X'Pert³ Powder* X'Pert³ MRD (XL)* CubiX³* |
EP3553508A2
US11035805B2 JP2019184609A CN110389142B | Aparelho e método de análise por raios X | Empyrean* |
US10359376B2
EP3273229A1 JP6701133B2 CN107643308B | Suporte de amostra para análise por raios X | Empyrean* |
US10782252B2
CN110376231A EP3553506A2 JP2019184610A | Aparelho e método de análise por raios X com controle híbrido de divergência de feixes | Linha Empyrean
X'Pert³ CubiX³ |
US10753890B2
EP3372994B1 (AT, CZ, GB, FR, NL, PL, DE602018003874.4) CN108572184B JP6709814B2 | Aparelho e método de difração de raios X de alta resolução | Empyrean* |
EP3553509B1 (AT, GB, FR, NL, DE602019017362.8)
JP2019184611A1 US10900912B2 CN110389143A | Aparelho de análise por raios X | Empyrean* |
US10352881B2
EP3343209B1 (GB, FR, NL, DE602017032595.3) CN108240998B JP6839645B2 | Tomografia computadorizada | Empyrean* |
US9753160B2
CN104285164B EP2850458B1 (GB, FR, NL, DE602013040524.7, IT502018000029139) JP6277351B2 | Sensor digital de raios X | Linha Empyrean
X'Pert³ CubiX³ |
*Opcional / fora do padrão do produto
# Disponível mediante solicitação |
DRX de bancada
Números de patentes | Título da patente | Equipamentos |
---|---|---|
EP1701154B1 (FR, DE)
JP4950523B2 | Instrumento e método para correção de anormalidades | Aeris
|
US9506880B2
CN104251870B EP2818851A1 JP6403452B2 | Imagens por difração | Aeris*
|
US7116754B2 | Difratômetro | Aeris*
|
EP2088625B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602009040563.2) | Detector de imagens | Aeris*
|
US9640292B2
JP6564572B2 CN104777179B EP2896960B1 (GB, FR, NL, DE602014012155.1) | Aparelho de raios X | Aeris |
US8477904B2
JP5752434B2 CN102253065B EP2365319B1 (GB, FR, NL, DE602011055847.1) | Difração de raios X e tomografia computadorizada | Aeris*
|
US7542547B2
JP5280057B2 CN101256160B EP1947448B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602007031351.1) | Equipamento de difração de raios X para dispersão de raios X
| Aeris*
|
US7477724B2
EP1703276B1 (GB, FR, NL, DE602005033962.0) | Instrumento de raios X | Aeris*
|
US8437451B2
JP5999901B2 CN102610290B EP2477191B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602011035906.1) | Disposição do obturador de raios X | Aeris
|
US9911569B2
JP2016131150A CN105810541B EP3043371B1 (GB, FR, NL, DE602015012421.9) | Disposição do ânodo da ampola de raios X
| Aeris*
|
US10753890B2
EP3372994B1 (AT, CZ, DE602018003874.4, GB, FR, NL, PL) CN108572184B JP6709814B2 | Aparelho e método de difração de raios X de alta resolução
| Aeris*
|
* Opcional/não padrão no produto |