As ferramentas de metrologia de filme fino com base em métodos de raios X, como XRD, XRR e XRF, são rápidas e não destrutivas. Elas provaram ser potentes na investigação ex-situ de parâmetros de materiais críticos de camadas finas, heteroestruturas e sistemas de supercela até escala de nanômetro.
As informações resultantes são essenciais para otimizar a qualidade do filme, melhorando a eficiência da produção e reduzindo os custos.
A Malvern Panalytical oferece soluções de metrologia para controle de desenvolvimento e produção de dispositivos micro e optoeletrônicos estruturados em camadas.
