Melhorando a qualidade do filme por meio de uma metodologia de filme fino
As ferramentas de metrologia de filme fino com base em métodos de raios X, como XRD, XRR e XRF, são rápidas e não destrutivas. Elas provaram ser potentes na investigação ex-situ de parâmetros de materiais críticos de camadas finas, heteroestruturas e sistemas de supercela até escala de nanômetro.
As informações resultantes são essenciais para otimizar a qualidade do filme, melhorando a eficiência da produção e reduzindo os custos.
A Malvern Panalytical oferece soluções de metrologia para controle de desenvolvimento e produção de dispositivos micro e optoeletrônicos estruturados em camadas.
2830 ZTSolução de metrologia de filme fino de semicondutores avançados |
X'Pert³ MRDVersátil sistema XRD de pesquisa e desenvolvimento |
X'Pert³ MRD XLVersátil sistema XRD de pesquisa, desenvolvimento e controle de qualidade |
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| Tecnologia | |||
| Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) | |||
| Tipo de medição | |||
| Metrologia de filme fino | |||
| Identificação química | |||
| Análise elementar | |||
| Detecção e análise de contaminantes | |||
| Quantificação elementar | |||
