Wafer XRD - 자동 웨이퍼 품질 관리 | Malvern Panalytical

개요

웨이퍼 XRD 200은 웨이퍼 생산 및 연구를 위한 완벽한 기능을 갖춘 자동화X선 회절 시스템으로, 높은 속도와 정확성을 제공합니다.

공정 라인에 완벽하게 맞도록 설계된 이 제품은 결정 방향, 노치 및 평면과 같은 기하학적 특징 인식, 거리 측정 및 저항률 등의 추가 옵션과 같은 주요 데이터를 제공합니다.

방위각 스캔 방법에서는 방향을 완전히 결정하는 데 필요한 모든 데이터를 수집하기 위해 단 한 번의 측정 회전만 필요하며, 정확도는 손상하지 않으면서 10초 이내에 결과를 제공합니다.

샘플은 360^o 로 회전하며 X선 소스와 검출기가 회전당 특정한 반사 횟수를 얻을 수 있도록 배치됩니다. 이러한 반사를 통해 결정 격자의 방향이 회전축에 대해 최대 0,003^o의 높은 정밀도로 측정될 수 있습니다.

Wafer XRD 200은 10분 이내에 25개의 웨이퍼로 구성된 전체 카세트를 측정할 수 있어 이를 완전히 독립적으로 수행하므로 QC 공정에서 강력하고 효율적인 요소가 됩니다.

Wafer XRD 200은 낮은 에너지 소비량과 공랭식 X선관 덕분에 수랭식 냉각이 필요 없어 운영 비용이 저렴합니다.

이 기기는 다양한 MES, SECS/GEM 및 유사한 인터페이스를 사용하여 생산 환경의 기존 공정에 쉽게 통합할 수 있습니다.

Wafer XRD 200은 다음과 같은 측정 기능을 통해 물질을 이전과는 전혀 다른 방식으로 이해할 수 있게 해줍니다.

Wafer XRD 200은 많은 샘플을 신속하게 분석해야 하는 생산 환경에 적합하게 설계되었습니다.

최대 직경 200mm의 샘플을 측정할 수 있으며, 아래와 같이 정의된 물질을 측정할 수 있어 안정성이 높습니다.

생산 및 처리: 빠르게 변화하는 산업에서 자동화는 필수입니다. 웨이퍼의 처리, 분류를 비롯하여 결정 방향, 광학 노치 및 평면 측정, 저항률 측정 등 중요한 매개 변수의 심층 측정을 관리하는 실용적이고 강력한 솔루션인 Wafer XRD 200은 이러한 변화를 선도하고 있습니다. 향상된 생산성을 직접 경험해 보십시오!

품질 관리: 물질을 정확하고 신속하게 이해하는 것이 우수한 품질 관리의 열쇠이며, Wafer XRD 200은 이상적인 솔루션입니다. 초고속 Omega-Scan 방법을 사용하여 1회 측정 시 결정 방향을 판단하므로 5초 이내에 결과를 얻을 수 있습니다. 저항률 및 기하학적 특징 측정을 포함한 추가 기능을 갖춘 Wafer XRD 200은 생산 품질 관리를 위한 탁월한 효율성과 다기능성을 제공합니다.

물질 연구: 바쁜 환경이 모두 생산적인 것은 아닙니다. Wafer XRD 200은 R&D 환경에서와 마찬가지로 높은 처리량 분석을 동일하게 제공할 수 있도록 장비를 갖추고 있습니다. Si, SiC 및 GaAs에서 석영, LiNbO3 및 BBO에 이르기까지 수백 가지의 다양한 물질을 분석할 수 있는 Wafer XRD 200은 재료 연구와 혁신을 지원하여 반도체 기술의 미래를 만들어 나갈 수 있도록 지원합니다.