研究および生産でのアプリケーション
テクスチャを理解することは重要です。 例えば、テクスチャは鋼鉄やアルミニウムのような金属の製造において、機械的強度(ツールインサートなど)や成形性などの特性を制御するための重要なパラメータです。
鉱物学や地質学では、岩石のテクスチャを測定して、地球の変形履歴を調べます。 配向分布を分析すると、人工物の形成プロセスを理解するのに役立ちます。
薄膜の成長条件を調整すると、ハードディスクドライブの材料や超伝導線などの必要な特性を最適化できます。
ディフラクトグラムのピークは、特定の配向における特定の(hkl)反射強度を表します。
回折装置に取り付けたサンプルを傾斜させたり回転させると、配向球(極点図)上の反射強度分布を記録できます。
独立した結晶方位の極点図セットを測定すると、結晶の方位分布関数(ODF)を計算できます。
分析ニーズに対応する多目的ソリューション
Malvern Panalyticalは、X線テクスチャ測定に関するさまざまなソリューションを提供しています。
EulerianクレードルとEmpyreanシステムは、さまざまな形状やサイズのサンプルの極点図を測定する材料科学者にとって最適なX線回折システムです。 方位分布関数を評価、視覚化、及び計算する測定後の分析は、Textureソフトウェアパッケージを使用して行います。
Empyrean（エンピリアン）多目的X線回折装置 |
X'Pert³ MRD多目的研究開発XRDシステム |
X'Pert³ MRD XL薄膜単結晶解析X線回折装置 |
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| 測定タイプ | |||
| 配向分析 | |||
| 技術 | |||
| XRD分析 | |||
