Wafer XRD 300

Ihre integrierbare Wafer-Ausrichtungslösung

Die Leistungsfähigkeit Ihrer Werksautomatisierung trifft auf unsere Röntgendiffraktionstechnologie der nächsten Generation. Der Wafer XRD 300 ist ein ultraschnelles, hochpräzises Messmodul zur Steuerung der Kristallausrichtung und der Wafergeometrie.

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Übersicht

Lernen Sie den Wafer XRD 300 kennen: Ihr Hochgeschwindigkeits-Röntgendiffraktionsmodul für die Herstellung von 300-mm-Wafern. Er liefert wichtige Daten zu einer Vielzahl wichtiger Parameter wie Kristallausrichtung und geometrischen Merkmalen wie Kerb- oder Flachpositionen und vielem mehr – sodass es nahtlos in Ihre Prozesslinie passt.

Leistungsmerkmale und Vorteile

Ultraschnelle Präzision mit unserer proprietären Scantechnologie

Die verwendete Methode erfordert lediglich einen Rotationsscan, um alle erforderlichen Daten zu sammeln, um die Kristallausrichtung vollständig zu bestimmen. Dies ermöglicht eine hohe Präzision bei einer sehr kurzen Messzeit von nur wenigen Sekunden.

Vollautomatische Handhabung und Sortierung

Der Wafer XRD 300 wurde entwickelt, um Ihren Durchsatz und Ihre Produktivität zu maximieren. Die vollständige Integration in Ihre Handhabungs- und Sortierautomatisierung macht ihn zu einer leistungsstarken und effizienten Ergänzung Ihres Prozesses. 

Vollautomatische Handhabung und Sortierung

Einfache Verbindung

Die leistungsstarke Automatisierung des Wafer XRD 300 lässt sich problemlos in Ihren neuen oder bestehenden Prozess integrieren, da er sowohl mit MES- als auch mit SECS/GEM-Schnittstellen kompatibel ist. 

Einfache Verbindung

Hohe Präzision, tiefere Einblicke

Mit den wichtigsten Messungen des Wafer XRD 300 verstehen Sie Ihre Materialien besser als je zuvor:

  • Kristallausrichtung
  • Kerbposition, Tiefe und Öffnungswinkel
  • Durchmesser
  • Flachposition und Länge
  • Weitere Sensoren auf Anfrage erhältlich

Die typische Standardabweichungsneigung (Beispiel: Si 100) für den Azimut-Scan ist <0,003o.

Leistungsstark und vielseitig

Angesichts der fortschreitenden Entwicklung der Halbleiterforschung war es noch nie so wichtig, eine Vielzahl von Proben zu messen. Der Wafer XRD 300 ermöglicht eine einfache und schnelle Analyse von Hunderten von Materialien, darunter: 

  • Si
  • SiC
  • AlN
  • Al2O3 (Saphir)
  • GaAs
  • Quarz
  • LiNbO3
  • BBO

Wichtigste Anwendungen

Produktion und Verarbeitung
Die Fortschritte in der Automatisierung verändern unsere Branchen – und der Wafer XRD 300 ist führend in dieser Branche als praktische, leistungsstarke Lösung für die Verwaltung von Ausrichtungsmessungen mit beispielloser Geschwindigkeit.
Qualitätskontrolle
Der Wafer XRD 300 bietet eine beispiellose Effizienz und Vielseitigkeit bei der Qualitätskontrolle in der Produktion und liefert hochgenaue Ergebnisse in weniger als 10 Sekunden. 
Er eignet sich gut für 300-mm-Produktionsumgebungen, bei denen die Integration in die benutzerdefinierte Automatisierung entscheidend ist.

Spezifikation

Durchsatz Mehr als 10.000 Wafer pro Monat
Wafergeometrie  Auf Anfrage
Neigungsgenauigkeit 0,003
XRD-Achse vs. Kerb-/Flachposition 0,03°

Unterstützung

Support-Services 

  • Hilfe am Telefon und Fernwartung
  • Präventive Wartung und Checkups
  • Flexible Kundendienstverträge
  • Leistungszertifikate
  • Software- und Hardware-Upgrades
  • Lokaler und globaler Support

Know-how

  • Schlüsselfertige Lösungen für die elementare und strukturelle Halbleitermesstechnik
  • Automatisierung und Beratung
  • Schulung und Weiterbildung
Automatisierung ist jetzt. Seien Sie Teil der Wafer XRD Revolution.

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Die ultimative Lösung für automatisierte Wafer-Sortierung, Kristallausrichtung und vieles mehr – mit der Fähigkeit, Ihre Produktivität zu steigern und Ihre Prozesse zukunftssicher zu machen.

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