Dünnschichtanalyse mit Röntgenstrahlen
Die Röntgenstrahlen-Messtechnik ist das ideale Werkzeug für die Dünnschichtanalyse bei der Entwicklung und Massenproduktion verschiedener Layer-strukturierter mikro- und optoelektronischen Geräten.
Röntgenstrahlen-Messtechniken haben mit den Fortschritten in der Branche durch die Entwicklung neuer Layer-basierter Anwendungen und Technologien mitgehalten.
Von der F&E-Phase über die Pilotproduktion bis hin zur vollumfänglichen automatisierten Fertigung von Halbleiterbauelementen dienen sie weiterhin als wichtige Werkzeuge.
Messwerkzeuge auf Basis von Röntgenmethoden wie XRD, XRR und RFAbieten nachweislich schnellen, zerstörungsfreien, zuverlässigen und präzisen Zugriff auf kritische Dünnschichtparameter von ultradünnen Single-Layers bis hin zu komplexen Multi-Layer-Stapeln.
Weitere Informationen zu unseren Dünnschichtanalysegeräten finden Sie unten.
ZetiumElementare Leistung |
Axios FASTHoher Probendurchsatz |
2830 ZTFortgeschrittene Lösung für die Halbleiter-Dünnschicht-Messtechnik |
Epsilon 4Schnelle und genaue Vor-Ort-Elementanalyse |
X'Pert³ MRDVielseitiges Röntgendiffraktometer für Forschung und Entwicklung |
X'Pert³ MRD XLVielseitiges Röntgendiffraktometer für Forschung, Entwicklung und Qualitätskontrolle |
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| Typ der Messung | ||||||
| Dünnschicht-Messtechnik | ||||||
| Technologie | ||||||
| Wellenlängendispersive Röntgenfluoreszenzanalyse (WDRFA) | ||||||
| Röntgendiffraktometrie (XRD) | ||||||
| Energiedispersive Röntgenfluoreszenzanalyse (EDRFA) | ||||||
