Die auf Röntgentechnologie basierenden Dünnschicht-Messtechniken wie XRD, XRR und RFA sind schnelle und zerstörungsfreie Verfahren. Sie haben sich als besonders leistungsfähig erwiesen für die Ex-Situ-Untersuchung kritischer Materialparameter von Dünnschichten, Heterostrukturen und Übergittersystemen bis in den Nanometer-Bereich.
Die Ergebnisse sind für die Optimierung der Schichtqualität essenziell, denn sie erhöhen die Produktionseffizienz und reduzieren Kosten.
Malvern Panalytical bietet Ihnen die optimale Messtechnik für die Entwicklung und Produktionskontrolle von schichtbasierten Mikro- und optoelektronischen Bauteile an.
