Verbesserung der Schichtqualität durch Dünnschicht-Messtechnik
Die auf Röntgentechnologie basierenden Dünnschicht-Messtechniken wie XRD, XRR und RFA sind schnelle und zerstörungsfreie Verfahren. Sie haben sich als besonders leistungsfähig erwiesen für die Ex-Situ-Untersuchung kritischer Materialparameter von Dünnschichten, Heterostrukturen und Übergittersystemen bis in den Nanometer-Bereich.
Die Ergebnisse sind für die Optimierung der Schichtqualität essenziell, denn sie erhöhen die Produktionseffizienz und reduzieren Kosten.
Malvern Panalytical bietet Ihnen die optimale Messtechnik für die Entwicklung und Produktionskontrolle von schichtbasierten Mikro- und optoelektronischen Bauteile an.
2830 ZTFortgeschrittene Lösung für die Halbleiter-Dünnschicht-Messtechnik |
X'Pert³ MRDVielseitiges Röntgendiffraktometer für Forschung und Entwicklung |
X'Pert³ MRD XLVielseitiges Röntgendiffraktometer für Forschung, Entwicklung und Qualitätskontrolle |
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| Technologie | |||
| Wellenlängendispersive Röntgenfluoreszenzanalyse (WDRFA) | |||
| Typ der Messung | |||
| Dünnschicht-Messtechnik | |||
| Chemische Identifikation | |||
| Elementaranalyse | |||
| Erkennung und Analyse von Verunreinigungen | |||
| Quantifizierung von Elementen | |||
