HTK 16N – high-temperature chamber
Para DRX em pó na geometria de reflexão com aquecimento rápido a 1.600 ºC.
A análise de raios X in situ, muitas vezes referida como análise em condições não ambientais, é uma das principais aplicações para pesquisa avançada de materiais em ambientes acadêmicos e industriais.
Análise de propriedades materiais
Qualquer propriedade macroscópica de um material está diretamente relacionada à sua propriedade estrutural (por exemplo, simetria cristalográfica, tamanho cristalito, vagas, tamanho e forma de nanopartículas ou poros). Temperatura, pressão, atmosfera de gás variável e transformação da fase de acionamento por tensão mecânica, reações químicas, recristalização etc.
As técnicas de difração de raios X (DRX) e de espalhamento de raios X são as primeiras e às vezes a única escolha para a caracterização in situ correta e precisa dessas alterações. Quer seja para a otimização de um processo de fabricação, para o ajuste de um procedimento de síntese ou para pesquisa de ponta e criação de novos materiais, a análise de raios X in situ é a ferramenta mais abrangente para a solução de problemas.
Baixe o folheto para obter uma visão geral dos anexos não ambientais e sua área de aplicação.
Explore a nossa gama de câmaras não ambientais
HTK 1200N – oven heater
Para DRX em pó na geometria de transmissão e reflexão, estresse básico, SAXS, PDF e análises de filme fino a temperaturas de 1.200 ºC.
HTK 2000N – high-temperature chamber
Para XRD em pó na geometria de reflexão com aquecimento rápido a 2000 ºC.
TTK 600 – low temperature chamber
Para DRX de pó em reflexão e transmissão, análise básica de tensão e filme fino na faixa de temperatura de -190 °C to +600 °C.
CHC plus+ – cryo and humidity chamber
Para DRX de pó em reflexão, estresse básico e análise de filme fino com temperatura e umidade controladas.
PheniX – low temperature cryostat
Para DRX em pó em reflexão, tensão básica e análise de filme fino na faixa de temperatura de - 261 °C (12 K) a + 25 °C (298 K).
Cryostream Plus compact
Para DRX de pó, SAXS básico e PDF em geometria capilar na faixa de temperatura de -193 ºC (80 K) a 227 ºC (500 K).
Chimera – cooling and heater chamber for powder diffraction
Para DRX de pó em reflexão, tensão básica e análise de filme fino na faixa de temperatura de -203 ºC (70 K) a 252 ºC (525 K).
XRK 900 – reactor chamber
Para DRX de pó em reflexão, análise de tensão básica e filme fino a temperaturas de 900 ºC e pressões de 10 bars com vários gases.
DCS 500 – domed cooling stage
Para análise avançada de filme fino e medições de tensão a temperaturas de -180 ºC a 500 ºC.
DHS 1100 – domed hot stage
Para análise avançada de filme fino, tensão, textura e DRX de pó básico em reflexão a temperaturas de 1.100 ºC.
BTS 150/500 – benchtop heating stages
Estágios de aquecimento em bancada Anton Paar BTS 150 e BTS 500, uma solução de baixo custo para DRX in situ (-10 ° C a +500 ° C).