HTK 16N – high-temperature chamber
1,600°C까지 빠르게 가열되는 반사 형상의 분말 XRD에 사용됩니다.
원위치 X선 분석에 완벽한 솔루션
원위치 X선 분석은 학계 및 산업 환경에서 첨단 재료 연구의 주요 응용 분야 중 하나로, 흔히 비대기 분석으로 불립니다.
재료의 거시적 특성은 구조적 특성(예: 결정학적 대칭성, 결정 크기, 원자 공공, 나노입자 또는 기공의 크기와 모양)과 직접 관련이 있습니다. 온도, 압력, 다양한 가스 대기 및 기계적 응력이 상 변형, 화학 반응, 재결정화 등을 촉발합니다.
X선 회절(XRD) 및 X선 산란 기술은 이러한 변화의 올바르고 정확한 원위치 특성을 규명하기 위한 최고의 방법이자, 상황에 따라서는 유일한 방법입니다. 원위치 X선 분석은 제조 공정 최적화, 합성 절차 조절 또는 최첨단 신소재 연구 및 창출과 같은 용도로 사용할 수 있는 가장 포괄적인 문제 해결 도구입니다.
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