Future Days 돌아보기: 반도체 혁신
반도체는 전 세계 사회의 전기화를 주도하고 있습니다. 따라서 올해 반도체에 초점을 맞춘 Future Days 이벤트가 선풍적인 인기를 얻은 것은 당연한 결과입니다.
지난 6월 5일, 질화갈륨(gallium nitride)과 함께 미래의 핵심 소재 중 하나가 될 가능성이 있는 소재인 탄화규소(Silicon carbide – SiC)에 대해 논의하고자 해당 업계 전문가들을 모셨습니다. 훌륭한 연사 패널들과 결정 방향, 최신 R&D 뉴스, 생산 시설의 보울(boule)에서 웨이퍼(wafer)까지의 여정에 대해 논의했습니다.
고객들이 실리콘 카바이드 결정에 대한 세 가지 관점 -실리콘 카바이드 성장 tool, 공정 자극 tool, 최대 수율로 결정 처리 tool-을 제시했기 때문에 이러한 논의는 특히 통찰력이 있었습니다.
이번 Future Days에 참석하지 못하셨거나, 재교육이 필요하신가요?
여러분을 위해 요약본을 준비했습니다.
호스트 Janinka Feenstra의 따뜻한 환영으로 시작된 프레젠테이션은 PVA TePla 연구 개발 책임자인 Slobodan Mitic 박사의 강연으로 시작되었습니다. PVA TePla는 세계 최고의 시스템 엔지니어링 회사 중 하나로 반도체 산업의 핵심 제조 및 기술 개발을 지원하고 있습니다.
Slobodan은 SiC 결정 성장 과정과 관련된 과제, 기회 및 혁신을 경험한 전문가입니다. 그는 PVA TePla가 파트너에게 제공하는 플라즈마 처리, 광학 및 화학적 계측을 포함하는 통합 솔루션 포트폴리오를 소개하며 연설을 마무리했습니다.
STR(반도체 기술 연구)의 사업 개발 이사인 Andrey Smirnov가 준비한 2가지 주제의 강연을 들을 기회도 있었습니다. STR은 결정 성장 모델링을 위한 전문 소프트웨어 및 컨설팅 서비스를 제공하고 있습니다. 먼저 그는 STR의 Virtual Reactor 소프트웨어가 목표 생산 특성을 달성하기 위해 어떻게 원자로 하드웨어 및 공정 매개변수를 조정할 수 있는지 보여주었습니다.
두 번째 강연인 “SiC 프론트엔드 사용을 위한 CVD 결정 성장 시뮬레이션”에서는 STR의 CVDSim3D 소프트웨어를 효과적으로 사용하여 반응기 설계, 표면 코팅 및 공정 조건을 개발하고 개선하여 SiC 에피 기술을 최적화할 수 있는 방법을 시연했습니다.
다음으로, Malvern Panalytical의 반도체 부문 관리자인 Lars Grieger의 강연이 진행되었습니다. 그는 SiC 초접합 MOSFET 개발을 지원하기 위한 결정 방향 계측에 대해 알아야 할 모든 것을 알려주었습니다. Lars는 SiC 성장에서 결정 방향이 중요한 이유를 설명하며 이 중요한 측정에 전념하는 Malvern Panalycal의 새로운 제품 라인을 선보였습니다.
Lars는 글로벌 마케팅 전문가인 Séverine Michel과 반도체 제품 관리자인 Kristin Gratz 박사에게 특별한 감사를 표하며 강연을 마쳤습니다. 그분들이 없었다면 이 행사를 원활하게 진행할 수 없었을 것입니다!
이어서 PVA TePla의 전무 이사인 Dennis Seibert의 강연이 진행되었습니다. 그의 강연에서는 오늘날 제조업체가 사용할 수 있는 최첨단 반도체 기술에 대해 소개했습니다.
그는 SiC가 고전력 애플리케이션 및 탈탄소화에 대한 가능성을 보이는 이유, 프로세스 제어 및 안정성이 높은 수율과 수익성을 달성하는 데 중요한 이유, PVA TePla의 광범위한 솔루션 포트폴리오가 가치 사슬의 핵심 파트너가 되는 이유를 설명했습니다.
또 다른 강연은 Malvern Panalytical의 결정 성장 응용 전문가인 Dirk Kok이 진행했습니다. 그는 결정 방향 측정이 시드-웨이퍼 공정을 지원하는 방법과 생산의 모든 단계에서 효율적인 분석을 통해 얻을 수 있는 이점에 대해 간략하게 설명했습니다.
여기에는 평면/노치 연삭(flat/notch grinding)과 상단 및 직경 연삭(top & diameter grinding)에 중요한 정보를 제공하는 웨이퍼 매핑(wafer mapping) 및 오프컷 매핑(offcut mapping)이 포함되었습니다. 그는 Malvern Panalytical 장비가 제공할 수 있는 in-situ 측정, 잉곳 스태킹(ingot stacking), 연마(polishing) 및 최종 제어(end control)의 이점을 설명하며 마무리했습니다.
반도체 전문가 상호작용
각 프레젠테이션 후에는 제시된 주제에 대해 Slobodan, Andrey, Dennis, Lars 및 Dirk가 참여하는 토론이 이어졌습니다. 이날은 아시아 반도체 시장, SiC 혁신을 주도하는 자동차 산업의 역할 등의 주제에 대한 대화로 마무리되었습니다.
2년 연속 이 행사를 개최할 수 있도록 참석해주신 모든 분들께 감사드립니다! 게스트 전문가가 제공하는 프레젠테이션과 토론을 즐겨 보시기 바랍니다. 앞으로 더 다양하고 전문적인 소식을 전달 드릴테니 많은 기대 부탁 드리겠습니다.
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