Aperçu
Le Wafer XRD 300 est un système de diffraction des rayons X à grande vitesse, capable d'analyser des wafers de 300 mm et de fournir des données clés telles que l'orientation des cristaux, les caractéristiques géométriques comme le diamètre ou la position des encoches, et bien plus encore. Il est conçu pour s'intégrer au dispositif de manipulation des wafers de l'étape de traitement choisie.
Fonctionnalités et avantages
Ultra-rapide et précise : méthode d'acquisition azimutale
La méthode d'acquisition azimutale ne nécessite qu'une seule rotation de mesure afin de recueillir toutes les données nécessaires à la détermination complète de l'orientation, ce qui permet d'obtenir des résultats en moins de 10 secondes sans compromettre la précision.
L'échantillon est tourné à 360°, la source de rayons X et le détecteur étant positionnés de manière à obtenir un certain nombre de réflexions par tour. Ces réflexions permettent de mesurer l'orientation du réseau cristallin par rapport à l'axe de rotation avec une grande précision allant jusqu'à 0,003o.
Manipulation entièrement automatisée
Avec des mesures effectuées en seulement 10 secondes par échantillon, le Wafer XRD 300 vous permet de vérifier chaque wafer passant par votre processus, ce qui en fait un élément puissant et efficace de votre processus de CQ.
Les coûts d'exploitation du Wafer XRD 300 sont faibles, grâce à sa faible consommation d'énergie et à son tube à rayons X refroidi par air. Aucun refroidissement par eau n'est nécessaire.
Connectivité simple
L'instrument peut être facilement intégré dans des processus existants dans des environnements de production à l'aide de ses différentes interfaces MES, SECS/GEM et similaires.
Des données plus poussées
Mesure très précise de l'orientation des cristaux de votre wafer de Si.
Le Wafer XRD 300 vous aide à comprendre vos matériaux comme jamais auparavant, car il est capable de mesurer :
- Orientation des cristaux
- Position, profondeur et angle d'ouverture de l'encoche
- Diamètre
Applications clés
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- Production et transformation
- Les progrès de l'automatisation changent nos industries. Le Wafer XRD 300 est à la pointe de la technologie en tant que solution pratique et puissante permettant de gérer les mesures d'orientation à des vitesses sans précédent.
- Contrôle qualité
- Le Wafer XRD 300 offre une efficacité et une polyvalence inégalées pour le contrôle qualité de la production, vous donnant des résultats très précis en moins de 10 secondes.
- Il est bien adapté aux environnements de production 300 mm où l'intégration dans l'automatisation personnalisée est essentielle.
Caractéristiques
| Débit | 10 000+ wafers par mois |
| Géométrie des wafers | Sur demande |
| Précision de l'inclinaison | 0,003 |
| Axe XRD vs encoche / position du méplat | 0,03° |
Assistance
Services d'assistance
- Assistance téléphonique et à distance
- Maintenance préventive et contrôles
- Contrats de service client flexibles
- Certificat de performances
- Mises à niveau matérielles et logicielles
- Assistance locale et mondiale
Expertise
- Solutions clés en main pour la métrologie élémentaire et structurelle des semi-conducteurs
- Automatisation et conseil
- Formation et éducation
