Wafer XRD 200

Solution rapide, précise et entièrement équipée pour l'orientation et le tri des wafers

Basé sur l'acquisition azimutale, le Wafer XRD 200 est une solution ultra-rapide, de haute précision et entièrement équipée pour la métrologie des wafers, avec une multitude d'options supplémentaires.

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Aperçu

Le Wafer XRD 200 est votre système de diffraction des rayons X entièrement équipé et automatisé pour la production et la recherche de wafers, offrant une vitesse et une précision élevées.

Conçu pour s'intégrer parfaitement à votre ligne de production, il fournit des données clés telles que l'orientation des cristaux, la reconnaissance des caractéristiques géométriques comme les encoches et les méplats, les mesures de distance et d'autres options telles que la résistivité, et bien plus encore.

Fonctionnalités et avantages

Ultra-rapide et précise : méthode d'acquisition azimutale

La méthode d'acquisition azimutale ne nécessite qu'une seule rotation de mesure afin de recueillir toutes les données nécessaires à la détermination complète de l'orientation, ce qui permet d'obtenir des résultats en moins de 10 secondes sans compromettre la précision.

L'échantillon est tourné à 360°, la source de rayons X et le détecteur étant positionnés de manière à obtenir un certain nombre de réflexions par tour. Ces réflexions permettent de mesurer l'orientation du réseau cristallin par rapport à l'axe de rotation avec une grande précision allant jusqu'à 0 003o.

Manipulation et tri entièrement automatisés

Capable de mesurer une cassette complète de 25 wafers en moins de 10 minutes et de façon totalement autonome, le Wafer XRD 200 est un élément puissant et efficace de votre processus de CQ.

Les coûts d'exploitation du Wafer XRD 200 sont faibles, grâce à sa faible consommation d'énergie et à son tube à rayons X refroidi par air. Aucun refroidissement par eau n'est nécessaire.

Manipulation et tri entièrement automatisés

Connectivité simple

L'instrument peut être facilement intégré dans des processus existants dans des environnements de production à l'aide de ses différentes interfaces MES, SECS/GEM et similaires.

Connectivité simple

Des données plus poussées

Le Wafer XRD 200 vous aide à comprendre vos matériaux comme jamais auparavant, car il est capable de mesurer :

  • Orientation des cristaux
  • Position, profondeur et angle d'ouverture de l'encoche
  • Position et longueur du méplat
  • Diamètre
  • Résistivité, etc.

Polyvalent et flexible

Le Wafer XRD 200 est bien équipé pour les environnements de production dans lesquels un grand nombre d'échantillons doivent être analysés rapidement.

Il peut mesurer des échantillons d'un diamètre allant jusqu'à 200 mm, avec une grande stabilité grâce à la mesure d'un matériau défini ci-dessous :

  • SiC
  • GaAs
  • Si
  • Al2O3 (saphir)
  • InP
  • Tout autre matériau monocristallin

Applications clés

Production et transformation
L'automatisation est une nécessité dans cette industrie en plein essor, et le Wafer XRD 200 est à la pointe de la technologie en tant que solution pratique et puissante pour gérer la manipulation, le tri et les mesures approfondies de l'orientation des cristaux, la détermination optique d'encoches et de méplats, les mesures de résistivité et d'autres paramètres importants. Découvrez la productivité accrue par vous-même !
Contrôle qualité
Comprendre vos matériaux avec précision et rapidité est la clé d'un excellent contrôle qualité, et le Wafer XRD 200 est la solution idéale. En utilisant la méthode ultra-rapide Omega-Scan, il détermine l'orientation des cristaux en une seule mesure, vous donnant vos résultats en cinq secondes. Avec des fonctionnalités supplémentaires comprenant la mesure de résistivité et la détermination des caractéristiques géométriques, le Wafer XRD 200 offre une efficacité et une polyvalence inégalées pour le contrôle qualité de la production.
Étude de matériaux
Tous les environnements occupés ne sont pas des environnements de production. Le Wafer XRD 200 est également équipé pour fournir des analyses à haut débit dans les environnements de R&D. Capable de caractériser des centaines de matériaux différents, du Si, SiC et GaAs au quartz, LiNbO3 et BBO, le Wafer XRD 200 dispose de la polyvalence nécessaire pour soutenir votre recherche et innovation en matière de matériaux et vous aider à façonner l'avenir de la technologie des semi-conducteurs.

Spécifications

Débit 10 000+ wafers par mois
Géométrie des wafers  Sur demande
Précision de l'inclinaison 0,003
Axe XRD vs encoche / position du méplat 0,03°

Assistance

Services d'assistance 

  • Assistance téléphonique et à distance
  • Maintenance préventive et contrôles
  • Contrats de service client flexibles
  • Certificat de performances
  • Mises à niveau matérielles et logicielles
  • Assistance locale et mondiale

Expertise

  • Solutions clés en main pour la métrologie élémentaire et structurelle des semi-conducteurs
  • Automatisation et conseil
  • Formation et éducation
L'automatisation est arrivée. Rejoignez la révolution Wafer XRD.

L'automatisation est arrivée. Rejoignez la révolution Wafer XRD.

La solution ultime pour le tri automatisé des wafers, l'orientation des cristaux, et bien plus encore. Le système Wafer XRD vous offre également la puissance de booster votre productivité et de pérenniser vos processus.

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