HTK 16N – chambre haute température
Pour la diffraction des rayons X de poudre en géométrie de réflexion avec chauffage rapide à 1 600 °C.
Solution complète pour l'analyse par rayons X in situ
L'analyse par rayons X in situ, souvent appelée analyse dans des conditions non ambiantes, est l'une des applications clés de la recherche sur les matériaux de pointe dans les environnements universitaires et industriels.
Toute propriété macroscopique d'un matériau est directement liée à sa propriété structurale (par exemple, symétrie cristallographique, taille de cristallites, lacunes, taille et forme des nanoparticules ou des pores). Température, pression, atmosphère gazeuse variable et transformation de la phase de déclenchement de contrainte mécanique, réactions chimiques, recristallisation, etc.
Les techniques de diffraction des rayons X (XRD) et de diffusion des rayons X sont le premier et parfois le seul choix pour la caractérisation in situ correcte et précise de ces changements. Qu'il s'agisse d'optimiser un procédé de fabrication ou d'ajuster une procédure de synthèse, ou pour la recherche et la création de nouveaux matériaux de pointe, l'analyse par rayons X in situ est l'outil le plus complet pour résoudre les problèmes.
Téléchargez la brochure pour obtenir une vue d'ensemble des accessoires à environnement contrôlé et de leur champ d'application.
