HTK 16N – chambre haute température
Pour la diffraction des rayons X de poudre en géométrie de réflexion avec chauffage rapide à 1 600 °C.
L'analyse par rayons X in situ, souvent appelée analyse dans des conditions non ambiantes, est l'une des applications clés de la recherche sur les matériaux de pointe dans les environnements universitaires et industriels.
Analyse des propriétés des matériaux
Toute propriété macroscopique d'un matériau est directement liée à sa propriété structurale (par exemple, symétrie cristallographique, taille de cristallites, lacunes, taille et forme des nanoparticules ou des pores). Température, pression, atmosphère gazeuse variable et transformation de la phase de déclenchement de contrainte mécanique, réactions chimiques, recristallisation, etc.
Les techniques de diffraction des rayons X (XRD) et de diffusion des rayons X sont le premier et parfois le seul choix pour la caractérisation in situ correcte et précise de ces changements. Qu'il s'agisse d'optimiser un procédé de fabrication ou d'ajuster une procédure de synthèse, ou pour la recherche et la création de nouveaux matériaux de pointe, l'analyse par rayons X in situ est l'outil le plus complet pour résoudre les problèmes.
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Découvrez notre gamme de chambres non ambiantes
HTK 1200N – chauffage du four
Pour la diffraction des rayons X de poudre en géométrie de réflexion et transmission, la contrainte de base, la diffusion de rayons X aux petits angles (SAXS), la fonction atomique de distribution de paires (PDF) et les analyses de couches minces à des températures allant jusqu'à 1 200 °C.
HTK 2000N – chambre haute température
Pour la diffraction des rayons X de poudre en géométrie de réflexion avec chauffage rapide à 2 000 °C.
TTK 600 – chambre basse température
Pour la diffraction des rayons X de poudre en réflexion et transmission, analyse des couches minces et des contraintes de base dans des température comprises entre -190 °C et +600 °C.
CHC plus+ – cryochambre et chambre d'humidité
Pour la diffraction des rayons X de poudre en réflexion, analyse des couches minces et des contraintes de base avec température et humidité contrôlées.
PheniX – cryostat basse température
Pour la diffraction des rayons X de poudre en réflexion, analyse des couches minces et des contraintes de base dans des températures comprises entre -261 °C (12 K) et +25 °C (298 K).
Cryostream Plus compact
Pour la diffraction des rayons X de poudre, SAXS de base et PDF en géométrie capillaire dans des températures comprises entre -193 °C (80 K) à 227 °C (500 K).
Chimera – chambre de refroidissement et de chauffage pour la diffraction de poudre
Pour la diffraction des rayons X de poudre en réflexion, analyse des couches minces et des contraintes de base dans des températures comprises entre -203 °C (70 K) à 252 °C (525 K).
XRK 900 – chambre de réacteur
Pour la diffraction des rayons X de poudre en réflexion, analyse des couches minces et des contraintes de base à des températures jusqu'à 900 °C et des pressions jusqu'à 10 bars avec différents gaz.
DCS 500 – élément de refroidissement
Pour l'analyse avancée des couches minces et les mesures de contraintes à des températures de -180 °C à 500 °C.
DHS 1100 – élément de chauffage
Pour l'analyse avancée des couches minces, la diffraction des rayons X de poudre de base, de textures et contraintes en réflexion à des températures jusqu'à 1 100 °C.
BTS 150/500 - Benchtop Heating Stages
Les platines de chauffage de paillasse Anton Paar BTS 150 et BTS 500 constituent une solution économique de diffraction des rayons X in situ (-10 °C à +500 °C).