Nos logiciels de diffraction des rayons X sont conçus pour extraire toutes les informations des matériaux.
Notre logiciel intuitif de collecte de données est particulièrement adapté à la recherche ou à l'utilisation des contrôles de procédé. Nous proposons également des modules d'analyse de pointe pour toutes les applications de diffraction des rayons X disponibles sur nos instruments.
Logiciel d'acquisition de données pour diffractomètres polyvalents
Ces modules logiciels permettent de bénéficier de toutes les fonctionnalités des systèmes polyvalents Empyrean, X’Pert³ Powder ou X’Pert³ MRD.
Data Collector constitue la boîte à outils logicielle centrale de l'acquisition de données pour Empyrean, X’Pert³ MRD (XL) et X’Pert³ Powder. XRD2DScan permet de convertir facilement des ensembles de données 2D en tracés 1D pour une analyse plus approfondie.
XRD2DScan
Logiciel pour les applications de contrôle de procédé de diffraction de poudre
Contrôlez votre système CubiX³ ou X’Pert³ Powder en mesurant la diffraction des poudres et obtenez des résultats quantitatifs basés sur des droites d'étalonnage.
Industry est conçu pour les environnements industriels et dispose d'une interface à boutons et de nombreuses fonctionnalités LIMS et d'automatisation. Grâce à l'interface Walk-up en option, les environnements multi-utilisateurs sont bien pris en charge. Quantify est une version simplifiée équipée de 10 modules d'analyse quantitative préprogrammés.
Industry
Quantify
Modules logiciels de diffraction de poudre
Notre gamme HighScore de logiciels de diffraction de poudre est conçue pour extraire toutes les informations de phase, des poudres libres et compactées, et autres échantillons polycristallins.
Découvrez HighScore, le logiciel de recherche-correspondance le plus avancé au monde grâce à sa prise en charge étendue de diverses bases de données de recherche-correspondance telles que CanDI-X. L'option HighScore Plus propose des programmes supplémentaires pour la cristallographie, l'analyse par cluster illimitée et l'analyse de Rietveld, en plus de toutes les fonctionnalités déjà présentes sur HighScore. RoboRiet offre une quantification Rietveld avec « exécution simple » et un ajustement des profils pour les environnements industriels.
HighScore
HighScore Plus
Recherche-correspondance
RoboRiet
Analyse par diffraction des rayons X des couches minces
Nos modules logiciels pour couches minces permettent d'obtenir des informations détaillées sur l'épaisseur, la composition, l'orientation préférentielle, la qualité épitaxiale et la contrainte résiduelle des couches.
Ces paramètres essentiels des couches minces sont facilement et rapidement quantifiés avec la nouvelle suite logicielle complète AMASS (Advanced Material Analysis and Simulation Software, Logiciel avancé d'analyse et de simulation de matériaux).
Pour les couches polycristallines et les empilements de couches, vous pouvez établir la composition de la phase, également en fonction de la profondeur, grâce à notre logiciel HighScore, et déterminer les contraintes résiduelles grâce à notre logiciel Stress Plus.
AMASS
Stress Plus
Analyse de la taille et de la forme des nanomatériaux
Logiciel d'analyse des données EasySAXS pour l'analyse des nanoparticules et des nanostructures. Il fournit des informations sur les structures et les dimensions à l'échelle nanométrique, les formes de nanoparticules et les surfaces spécifiques.
Le logiciel permet également d'analyser des données de diffusion de rayons X aux ultra-petits angles (USAXS).
EasySAXS 2.2
Analyse des objets solides
Nos modules logiciels Texture et Stress indiquent l'orientation préférentielle et les contraintes résiduelles présentes dans les composants usinés tels que les métaux laminés et extrudés.
Stress est acclamé par des experts du monde entier pour ses nombreuses fonctionnalités intuitives. Le module optionnel Stress Plus ajoute au logiciel Stress la fonctionnalité d'analyse de la contrainte résiduelle dans les couches minces.
Texture offre de nombreuses fonctionnalités destinées à l'analyse des figures de pôles, des fonctions de distribution de l'orientation (ODF) et des figures de pôles inversées.