Información general
Conozca el Wafer XRD 300: su módulo de difracción de rayos X de alta velocidad para la producción de obleas de 300 mm. Proporciona datos clave sobre diversos parámetros esenciales como la orientación del cristal, y características geométricas como muescas y partes planas y mucho más. Está diseñado para encajar a la perfección en su línea de proceso.
Características y beneficios
Precisión ultrarrápida con nuestra tecnología de escaneo patentada
El método utilizado requiere un único escaneo rotativo para recopilar todos los datos necesarios a fin de determinar completamente la orientación del cristal, lo que ofrece una alta precisión en un tiempo de medición muy bajo: en unos pocos segundos.
Manejo y clasificación totalmente automatizados
El Wafer XRD 300 está diseñado para maximizar su rendimiento y productividad. La integración completa en su automatización de manejo y clasificación lo convierte en una adición potente y eficiente a su proceso.
Fácil conectividad
La potente automatización del Wafer XRD 300 se adapta fácilmente a su proceso nuevo o existente, ya que es compatible con las interfaces MES y SECS/GEM.
Alta precisión, mayor perspectiva
Comprenda sus materiales como nunca antes con las mediciones clave del Wafer XRD 300, incluidos los siguientes aspectos:
- Orientación del cristal
- Posición, profundidad y ángulo de apertura de las muescas
- Diámetro
- Posición plana y longitud
- Otros sensores disponibles a pedido
La inclinación típica de desviación estándar (ejemplo: Si 100) para el escaneo azimutal es <0,003o.
Potente y versátil
A medida que evoluciona la investigación de semiconductores, nunca ha sido más importante medir una variedad de muestras. El Wafer XRD 300 permite un análisis fácil y rápido para cientos de materiales, incluidos los siguientes:
- Si
- SiC
- AlN
- Al2O3 (zafiro)
- GaAs
- Cuarzo
- LiNbO3
- BBO
Aplicaciones clave
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- Producción y procesamiento
- Los avances en la automatización están cambiando nuestras industrias, y el Wafer XRD 300 lleva la delantera como solución práctica y potente para gestionar las mediciones de orientación a velocidades sin precedentes.
- Control de calidad
- El Wafer XRD 300 ofrece una eficiencia y versatilidad sin precedentes para el control de calidad de la producción, lo que le brinda resultados altamente precisos en menos de diez segundos.
- Es muy adecuado para entornos de producción de 300 mm donde la integración hacia la automatización personalizada es clave.
Especificación
Rendimiento | Más de 10 000 obleas por mes |
Geometría de obleas | A pedido |
Precisión de inclinación | 0,003 |
Eje de XRD vs. posición de muescas/partes planas | 0,03° |
Soporte
Servicios de asistencia
- Asistencia telefónica y remota
- Mantenimiento preventivo y revisiones
- Acuerdos flexibles de atención al cliente
- Certificados de rendimiento
- Actualizaciones de hardware y software
- Asistencia local y global
Experiencia
- Soluciones integrales para metrología de semiconductores elementales y estructurales
- Automatización y consultoría
- Capacitación y educación