HTK 16N – high-temperature chamber
Para XRD de polvo en la geometría de reflexión con calentamiento rápido a 1600 °C
El análisis de rayos X in situ, a menudo denominado análisis en condiciones no ambientales, es una de las aplicaciones clave para la investigación avanzada de materiales tanto en entornos académicos como industriales.
Análisis de propiedades de materiales
Cualquier propiedad macroscópica de un material está directamente relacionada con su propiedad estructural (p. ej., simetría cristalográfica, tamaño de cristalito, vacantes, tamaño y forma de nanopartículas o poros). La temperatura, la presión, la variación de la atmósfera de gas y la transformación de fase de activación de tensión mecánica, las reacciones químicas, la recristalización, etc.
Las técnicas de dispersión de rayos X (XRD) y dispersión de rayos X son la primera y, a veces, la única opción para la caracterización in situ correcta y exacta de estos cambios. Ya sea para la optimización de un proceso de fabricación o el ajuste de un procedimiento de síntesis, o para la investigación y creación de nuevos materiales de vanguardia, el análisis de rayos X in situ es la herramienta más completa para la resolución de problemas.
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Explore nuestra gama de cámaras no ambientales
HTK 1200N – oven heater
Para XRD de polvo en geometría de transmisión y reflexión, análisis de tensión mecánica básica, SAXS, PDF y película delgada a temperaturas de hasta 1200 °C
HTK 2000N – high-temperature chamber
Para XRD de polvo en la geometría de reflexión con calentamiento rápido a 2000 °C
TTK 600 – low temperature chamber
Para la XRD de polvo en el análisis de reflexión y transmisión, tensión mecánica básica y película delgada en el rango de temperatura de -190 °C a +600 °C
CHC plus+ – cryo and humidity chamber
Para la XRD de polvo en reflexión, la tensión mecánica básica y el análisis de película delgada con temperatura y humedad controladas
PheniX – low temperature cryostat
Para la XRD de polvo en el análisis de reflexión, tensión mecánica básica y película delgada en el rango de temperatura de -261 °C (12 °K) a +25 °C (298 °K)
Cryostream Plus compact
Para XRD de polvo, SAXS básico y PDF en la geometría capilar en el rango de temperatura de -193 °C (80 °K) a 227 °C (500 °K)
Chimera – cooling and heater chamber for powder diffraction
Para la XRD de polvo en el análisis de reflexión, tensión mecánica básica y película delgada en el rango de temperatura de -203 °C (70 °K) a 252 °C (525 °K)
XRK 900 – reactor chamber
Para la XRD del polvo en reflexión, el estrés básico y el análisis de película delgada a temperaturas de hasta 900 °C y presiones de hasta 10 bar con varios gases
DCS 500 – domed cooling stage
Para el análisis avanzado de películas delgadas y mediciones de tensión mecánica a temperaturas de -180 °C a 500 °C
DHS 1100 – domed hot stage
Para el análisis avanzado de película delgada, tensión mecánica, textura y la XRD de polvo básico en reflexión a temperaturas de hasta 1100 °C
BTS 150/500 – benchtop heating stages
Las etapas de calentamiento en la mesa de Anton Paar BTS 150 y BTS 500, una solución de bajo costo para XRD in situ (de -10 °C a +500 °C)