Visão geral
O Wafer XRD 300 é um sistema de difração de raios X de alta velocidade, capaz de analisar wafers de 300 mm e fornecer dados-chave, como orientação de cristal, características geométricas como diâmetro ou posição de entalhe, e muito mais. Ele é projetado para caber em um front-end de manuseio de wafer da etapa de processamento de sua preferência.
Recursos e benefícios
Ultrarrápido e preciso: Método de projeção Azimutal
O método de projeção azimutal requer apenas uma rotação de medição para reunir todos os dados necessários para determinar totalmente a orientação, que fornece os resultados em 10 segundos, sem comprometer a precisão.
A amostra é girada 360o, com a fonte de raios X e o detector posicionados para atingir um determinado número de reflexões por volta. Essas reflexões permitem que a orientação da rede cristalina seja medida em relação ao eixo de rotação com alta precisão de até 0.003o.
Manuseio totalmente automatizado
Com medições concluídas em apenas 10 segundos por amostra, o Wafer XRD 300 permite que você verifique cada wafer que passa por seu processo, tornando-o um elemento poderoso e eficiente em seu processo de QC.
Os custos operacionais são baixos para o Wafer XRD 300, graças ao seu baixo consumo de energia e ao tubo de raios X refrigerado a ar – não é necessário resfriar a água.
Conectividade fácil
O instrumento pode ser facilmente integrado em processos existentes em ambientes de produção usando suas várias interfaces MES, SECS/GEM e similares.
Insights mais profundos
Altamente preciso na medição de sua orientação de cristal de wafer Si.
O Wafer XRD 300 faz você entender seus materiais como nunca antes, sendo capaz de medir:
- Orientação de cristal
- Posição do encaixe, profundidade e ângulo de abertura
- Diâmetro
Principais aplicações
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- Produção e processamento
- Os avanços na automação estão mudando nossas indústrias, e o Wafer XRD 300 está na liderança como uma solução prática e poderosa para gerenciar medições de orientação em velocidades sem precedentes.
- Controle de qualidade
- O Wafer XRD 300 oferece eficiência e versatilidade incomparáveis para o controle de qualidade da produção, proporcionando resultados altamente precisos em menos de 10 segundos.
- É adequado para ambientes de produção de 300 mm, em que a integração na automação personalizada é fundamental.
Especificação
| Rendimento | Mais de 10.000 wafers por mês |
| Geometria do wafer | Sob demanda |
| Precisão de inclinação | 0,003 |
| Eixo XRD em relação ao encaixe/posição plana | 0,03° |
Suporte
Serviços de suporte
- Suporte remoto e por telefone
- Manutenção preventiva e verificações
- Contrato de atendimento flexível ao cliente
- Certificados de desempenho
- Upgrades de hardware e software
- Suporte local e global
Conhecimento
- Soluções prontas para metrologia de semicondutores elementares e estruturais
- Automação e consultoria
- Treinamento e formação
